| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10-12页 |
| 1.1.1 二维层状纳米材料的简介 | 第10-11页 |
| 1.1.2 二维层状纳米材料的分类 | 第11-12页 |
| 1.2 二维材料的制备 | 第12-14页 |
| 1.2.1 机械剥离法 | 第12页 |
| 1.2.2 液相剥离法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 气相沉积法 | 第13-14页 |
| 1.3 二维材料的光电性质 | 第14-18页 |
| 1.3.1 光吸收 | 第14-15页 |
| 1.3.2 可调的带隙 | 第15-16页 |
| 1.3.3 光致发光 | 第16-17页 |
| 1.3.4 光电特性 | 第17-18页 |
| 1.4 本论文的选题目的和意义 | 第18-20页 |
| 第二章 二维层状纳米材料MoS_2的液相剥离法制备及其光电响应特性 | 第20-28页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 实验仪器及实验流程 | 第20-22页 |
| 2.2.1 实验仪器 | 第20-21页 |
| 2.2.2 实验流程 | 第21-22页 |
| 2.3 液相剥离法制备MoS_2二维纳米材料 | 第22-25页 |
| 2.3.1 剥离实验 | 第22-23页 |
| 2.3.2 材料的表征 | 第23-25页 |
| 2.4 MoS_2薄膜的光电响应 | 第25-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-28页 |
| 第三章 基于混合热焓理论高效剥离Bi_2S_3及其光电响应特性 | 第28-38页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 最佳剥离溶剂的筛选 | 第28-31页 |
| 3.3 二维Bi_2S_3纳米薄片的表征 | 第31-33页 |
| 3.4 Bi_2S_3薄膜的光电探测 | 第33-35页 |
| 3.4.1 光电实验的实验仪器 | 第33-34页 |
| 3.4.2 Bi_2S_3薄膜的制备及光电实验 | 第34-35页 |
| 3.5 块体和单层Bi_2S_3的电子结构 | 第35-36页 |
| 3.6 本章小结 | 第36-38页 |
| 第四章 基于MoO_2气相沉积法生长MoS_2的机理研究 | 第38-58页 |
| 4.1 引言 | 第38-39页 |
| 4.2 MoO_2的生长 | 第39-44页 |
| 4.2.1 实验及表征仪器 | 第39-40页 |
| 4.2.2 实验流程 | 第40页 |
| 4.2.3 MoO_2的形貌 | 第40-44页 |
| 4.3 基底上生长MoO_2晶体的形貌和位置分布的研究 | 第44-46页 |
| 4.4 在预沉积金属Mo上生长MoO_2 | 第46-47页 |
| 4.5 MoO_2沉积过程机理的研究 | 第47-52页 |
| 4.6 以MoO_2晶体为基底生长MoS_2 | 第52-55页 |
| 4.7 本章小结 | 第55-58页 |
| 第五章 总结与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 总结 | 第58-59页 |
| 5.2 展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66-68页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果与奖励 | 第68-70页 |
