| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-23页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 半导体气敏传感器研究进展 | 第10-11页 |
| 1.3 纳米氧化物半导体气敏材料的制备方法 | 第11页 |
| 1.4 纳米氧化物半导体气敏材料的微结构、制备及气敏性能间的关系 | 第11-15页 |
| 1.5 WO_3二维纳米晶材料的气敏特性及其气敏机理 | 第15-18页 |
| 1.5.1 WO_3二维纳米晶材料的气敏特性 | 第15-16页 |
| 1.5.2 WO_3二维纳米晶材料的气敏机理 | 第16-18页 |
| 1.6 相结构与晶面取向控制对材料气敏性能的影响 | 第18-21页 |
| 1.6.1 相结构控制对材料气敏性能的影响 | 第18-20页 |
| 1.6.2 晶面取向对材料气敏性能的影响 | 第20-21页 |
| 1.7 课题的提出 | 第21-23页 |
| 第二章 实验过程与测试 | 第23-28页 |
| 2.1 实验原料及设备 | 第23-24页 |
| 2.2 水热技术制备WO_3二维纳米晶气敏材料的工艺 | 第24-25页 |
| 2.3 旁热式气敏传感器的制备工艺 | 第25-26页 |
| 2.4 材料气敏性能测试 | 第26-27页 |
| 2.5 材料表征方法 | 第27-28页 |
| 第三章 WO_3纳米晶的水热法制备工艺研究及气敏性能分析 | 第28-47页 |
| 3.1 结构导向剂对WO_3纳米晶微观形貌及晶体结构的影响 | 第28-31页 |
| 3.2 水热温度对WO_3纳米晶微观形貌及晶体结构的影响 | 第31-33页 |
| 3.3 溶液pH值对WO_3纳米晶微观形貌及晶体结构的影响 | 第33-34页 |
| 3.4 热处理温度对WO_3纳米晶微观形貌及晶体结构的影响 | 第34-37页 |
| 3.5 各维度WO_3纳米晶对丙酮气体的气敏性能分析 | 第37-42页 |
| 3.6 各维度WO_3纳米晶对NO_2气体的气敏性能分析 | 第42-45页 |
| 3.7 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 WO_3二维纳米晶的相结构控制及气敏选择性研究 | 第47-63页 |
| 4.1 WO_3二维纳米晶的相结构控制 | 第47-50页 |
| 4.2 单斜相、三斜相和六方相WO_3二维纳米晶对丙酮气体的气敏性能对比 | 第50-53页 |
| 4.3 单斜相、三斜相和六方相WO_3二维纳米晶对NO_2气体的气敏性能对比 | 第53-55页 |
| 4.4 WO_3二维纳米晶的物相结构分析及其对材料气敏选择性的影响 | 第55-58页 |
| 4.5 WO_3二维纳米晶的暴露晶面原子结构分析及其对材料气敏选择性的影响 | 第58-60页 |
| 4.6 提高WO_3二维纳米晶气体选择性方法探讨 | 第60-61页 |
| 4.7 本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 全文结论 | 第63-65页 |
| 创新性说明 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
