| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 课题背景 | 第11-14页 |
| 1.1.1 DBPs的概述 | 第11-12页 |
| 1.1.2 DBPs的生成 | 第12页 |
| 1.1.3 DBPs的去除 | 第12-13页 |
| 1.1.4 DBPs中卤代甲烷类的特性 | 第13-14页 |
| 1.2 管网条件下稳定性国内外研究现状 | 第14-17页 |
| 1.2.1 水解因素研究 | 第15-16页 |
| 1.2.2 氧化、还原因素研究 | 第16-17页 |
| 1.3 非管网条件下稳定性国内外研究现状 | 第17-19页 |
| 1.3.1 UV254nm光解因素研究 | 第17页 |
| 1.3.2 家庭方式的去除效果研究 | 第17-19页 |
| 1.4 课题研究技术路线及研究内容 | 第19-22页 |
| 1.4.1 技术路线 | 第19-20页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 试验材料与方法 | 第22-31页 |
| 2.1 试验材料 | 第22-25页 |
| 2.1.1 试验药品 | 第22-23页 |
| 2.1.2 试验用水 | 第23页 |
| 2.1.3 标准溶液配制 | 第23页 |
| 2.1.4 缓冲溶液配制 | 第23-24页 |
| 2.1.5 测铁离子所需溶液的配制 | 第24页 |
| 2.1.6 氯胺溶液的配制 | 第24-25页 |
| 2.2 试验仪器与设备 | 第25-26页 |
| 2.3 试验方法 | 第26-31页 |
| 2.3.1 卤代甲烷的检测方法 | 第26-29页 |
| 2.3.2 其他检测方法的建立 | 第29-31页 |
| 第3章 卤代甲烷在管网因素下的稳定性研究 | 第31-55页 |
| 3.1 卤代甲烷的水解 | 第31-41页 |
| 3.1.1 卤代甲烷在不同p H和温度下的水解 | 第31-37页 |
| 3.1.2 卤代甲烷在其他环境因子下的水解 | 第37-40页 |
| 3.1.3 卤代甲烷的水解产物 | 第40-41页 |
| 3.2 卤代甲烷的氧化 | 第41-44页 |
| 3.2.1 卤代甲烷在余氯下的氧化 | 第41-42页 |
| 3.2.2 卤代甲烷在氯胺下的氧化 | 第42-44页 |
| 3.3 卤代甲烷的还原 | 第44-53页 |
| 3.3.1 零价铁投加量对卤代甲烷还原的影响 | 第44-46页 |
| 3.3.2 p H对卤代甲烷零价铁还原的影响 | 第46-48页 |
| 3.3.3 Fe2+、腐殖酸、SO32-对卤代甲烷零价铁还原的影响 | 第48-51页 |
| 3.3.4 水体对卤代甲烷零价铁还原的影响 | 第51-52页 |
| 3.3.5 卤代甲烷零价铁还原产物 | 第52-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 第4章 卤代甲烷在非管网因素下的稳定性研究 | 第55-86页 |
| 4.1 卤代甲烷在UV254nm的光解 | 第55-66页 |
| 4.1.1 紫外灯功率对卤代甲烷光解的影响 | 第55-57页 |
| 4.1.2 p H对卤代甲烷UV254nm光解的影响 | 第57页 |
| 4.1.3 其他环境因子对卤代甲烷UV254nm光解的影响 | 第57-64页 |
| 4.1.4 水体对卤代甲烷UV254nm光解的影响 | 第64-65页 |
| 4.1.5 卤代甲烷的UV254nm光解产物 | 第65-66页 |
| 4.2 家用RO净水器对卤代甲烷的去除 | 第66-72页 |
| 4.2.1 预处理滤芯对卤代甲烷的去除效果 | 第66-69页 |
| 4.2.2 RO膜对卤代甲烷的去除效果 | 第69-72页 |
| 4.3 家庭方式对卤代甲烷的去除 | 第72-84页 |
| 4.3.1 温度对卤代甲烷的影响 | 第73-77页 |
| 4.3.2 风速对卤代甲烷的影响 | 第77-79页 |
| 4.3.3 震荡对卤代甲烷的影响 | 第79-81页 |
| 4.3.4 超声对卤代甲烷的影响 | 第81-83页 |
| 4.3.5 微波对卤代甲烷的影响 | 第83-84页 |
| 4.4 本章小结 | 第84-86页 |
| 结论 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
