| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-31页 |
| ·电化学控制离子分离过程 | 第12-13页 |
| ·电控离子分离膜 | 第13-14页 |
| ·NiHCF 膜的结构 | 第14-15页 |
| ·NiHCF 膜的制备 | 第15-16页 |
| ·三维多孔电极 | 第16-17页 |
| ·多孔NiHCF 膜电极 | 第17-18页 |
| ·多孔NiHCF 膜的电化学行为 | 第18-20页 |
| ·多孔NiHCF 膜的扩散特性研究 | 第20-21页 |
| ·本论文的研究目的和意义 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-31页 |
| 第二章 实验部分 | 第31-37页 |
| ·试剂与仪器 | 第31-32页 |
| ·NiHCF 膜的制备 | 第32-34页 |
| ·基体预处理 | 第32-33页 |
| ·实验装置 | 第33页 |
| ·阴极电沉积法 | 第33-34页 |
| ·化学沉积法 | 第34页 |
| ·分析测试方法 | 第34-37页 |
| ·电化学性能实验 | 第34-35页 |
| ·循环伏安法 | 第34-35页 |
| ·计时库仑法 | 第35页 |
| ·X 射线能谱分析（EDS） | 第35-37页 |
| 第三章 三维膜电极电控离子分离过程离子扩散特性研究 | 第37-50页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·实验部分 | 第37-38页 |
| ·膜电极制备 | 第37-38页 |
| ·膜电极性能实验 | 第38页 |
| ·结果与讨论 | 第38-46页 |
| ·NiHCF 薄膜的SEM 图及EDS 能谱 | 第38-40页 |
| ·三维膜电极的离子传递—反应过程分析 | 第40-41页 |
| ·石墨芯基体NiHCF 膜电极的制备 | 第41-42页 |
| ·电极间距对膜电极循环伏安图的影响 | 第42-44页 |
| ·单排石墨芯(SRGC)膜电极系统 | 第42-43页 |
| ·MRGC 膜电极系统 | 第43-44页 |
| ·电极厚度对膜电极循环伏安图的影响 | 第44-45页 |
| ·扫描速度对膜电极循环伏安图的影响 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 第四章 循环伏安法测定三维多孔泡沫镍（膜）电极的活性面积 | 第50-63页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·实验部分 | 第51-52页 |
| ·多孔NiHCF 膜电极的制备 | 第51页 |
| ·电化学测定 | 第51-52页 |
| ·循环伏安法 | 第51-52页 |
| ·计时库伦法 | 第52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-60页 |
| ·多孔电极在K3Fe(CN)6 溶液中的循环伏安行为 | 第52-54页 |
| ·多孔膜电极在 KNO_3 溶液中的循环伏安行为 | 第54-56页 |
| ·计时库仑法 | 第56-58页 |
| ·离子扩散模型 | 第58-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 第五章 三维多孔膜电极孔内离子传递—反应理论模型 | 第63-75页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·模型的建立 | 第64-67页 |
| ·Nernst 方程 | 第64页 |
| ·Laviron 理论 | 第64-65页 |
| ·方程的推导 | 第65-67页 |
| ·实验部分 | 第67-72页 |
| ·平面Pt 电极 | 第67-68页 |
| ·多孔泡沫镍电极 | 第68-69页 |
| ·多排石墨芯电极 | 第69-70页 |
| ·多孔镍网/石墨基电极 | 第70-71页 |
| ·浓度对峰分离程度的影响 | 第71-72页 |
| ·小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-75页 |
| 结论与建议 | 第75-77页 |
| 一、结论 | 第75-76页 |
| 二、建议 | 第76-77页 |
| 附录一 基体电阻的消除 | 第77-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第80页 |
