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等离子体浸没离子注入在太阳能电池中的应用研究

致谢第5-6页
摘要第6-7页
ABSTRACT第7-8页
第9-10页
目录第10-12页
1 绪论第12-24页
    1.1 引言第12-13页
    1.2 太阳能电池的发展历史与现状第13页
    1.3 离子注入技术在太阳能电池制造中的应用第13-22页
        1.3.1 离子注入概述第14-15页
        1.3.2 等离子体浸没离子注入概述第15-17页
        1.3.3 注入掺杂制备PN结第17-19页
        1.3.4 等离子体浸没离子注入制备黑硅第19-22页
    1.4 本文研究内容和意义第22-24页
2 晶体硅太阳能电池的基本原理及生产工艺第24-38页
    2.1 晶体硅太阳能电池的基本原理第24-30页
        2.1.1 PN结基本原理第24-25页
        2.1.2 光生伏特效应第25-27页
        2.1.3 太阳能电池的电压—电流特性第27-28页
        2.1.4 太阳能电池的性能表征第28-30页
    2.2 晶体硅太阳能电池的生产工艺第30-38页
        2.2.1 表面制绒第30-31页
        2.2.2 扩散制结第31-32页
        2.2.3 边缘刻蚀第32-33页
        2.2.4 二次清洗第33-34页
        2.2.5 PECVD第34-35页
        2.2.6 丝网印刷第35-36页
        2.2.7 高温烧结第36-38页
3 等离子体浸没离子注入制备PN结第38-58页
    3.1 实验装置第38-40页
    3.2 实验原理第40-43页
        3.2.1 离子注入第40-41页
        3.2.2 退火第41-42页
        3.2.3 方块电阻及其测试方法第42-43页
    3.3 实验设计第43-45页
    3.4 实验内容第45-48页
        3.4.1 离子注入制备PN结第45页
        3.4.2 快速热退火第45-46页
        3.4.3 方块电阻的测试第46-48页
    3.5 数据分析第48-55页
        3.5.1 退火条件分析第48-51页
        3.5.2 注入条件分析第51-55页
        3.5.3 多晶硅与单晶硅注入比较第55页
    3.6 本章小结第55-58页
4 等离子体浸没离子注入制备黑硅太阳能电池第58-76页
    4.1 等离子体浸没离子注入制备黑硅原理第58-61页
        4.1.1 实验装置第58-59页
        4.1.2 实验原理第59-61页
    4.2 黑硅制备后表面湿法去损的研究第61-65页
        4.2.1 湿法去损原理第61-62页
        4.2.2 NaNO_2/HF溶液去损研究第62-65页
    4.3 实验设计第65-67页
    4.4 表征方法第67-68页
    4.5 实验结果及分析第68-75页
        4.5.1 表面微观形貌第68-69页
        4.5.2 表面反射率第69-73页
        4.5.3 外量子效率第73-74页
        4.5.4 太阳能电池性能第74-75页
    4.6 本章小结第75-76页
5 结论第76-80页
    5.1 本文的主要工作及结论第76-77页
    5.2 进一步研究的建议第77-80页
参考文献第80-86页
作者简历第86-90页
学位论文数据集第90页

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