| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-35页 |
| 1.1 二维材料概述 | 第11-14页 |
| 1.2 二维过渡金属碳化物或氮化物MXenes材料 | 第14-29页 |
| 1.2.1 多层MXenes材料的合成 | 第15-21页 |
| 1.2.2 单层或几层d-MXenes材料的合成 | 第21-22页 |
| 1.2.3 MXenes材料的结构及性质 | 第22-26页 |
| 1.2.4 MXenes材料的应用 | 第26-29页 |
| 1.3 新型三元或四元层状碳化物 | 第29-33页 |
| 1.4 本论文研究内容及意义 | 第33-35页 |
| 第二章 锆系二维材料Zr_3C_2T_z(T=O,F,OH)MXene的合成及性质研究 | 第35-53页 |
| 2.1 引言 | 第35-36页 |
| 2.2 实验方法 | 第36-38页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第38-52页 |
| 2.3.1 Zr_3Al_3C_5在HF水溶液中的静态刻蚀 | 第38-42页 |
| 2.3.2 Zr_3C_2T_zMXene的形成机制、微观结构及化学组成 | 第42-47页 |
| 2.3.3 Zr_3C_2T_z的热稳定性 | 第47-50页 |
| 2.3.4 Zr_3C_2T_z的本征物理性质预测 | 第50-52页 |
| 2.4 小结 | 第52-53页 |
| 第三章 铪系二维碳化物Hf_3C_2T_z(T=O,F,OH)MXene的合成及性能研究 | 第53-77页 |
| 3.1 引言 | 第53-54页 |
| 3.2 实验方法 | 第54-57页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第57-74页 |
| 3.3.1 Hf-Al-C三元复相粉体的刻蚀行为 | 第57-59页 |
| 3.3.2 Hf_3[Al(Si)]_4C_6固溶体的静态刻蚀 | 第59-63页 |
| 3.3.3 Hf_3C_2T2(T=O,F,OH)MXenes的形成机理 | 第63-70页 |
| 3.3.4 Hf_3C_2T2(T=O,F,OH)MXenes本征物性的理论预测 | 第70-71页 |
| 3.3.5 d-Hf_3C_2T_z的电化学性能 | 第71-74页 |
| 3.4 小结 | 第74-77页 |
| 第四章 钪系二维碳化物ScCOH的合成及性质研究 | 第77-99页 |
| 4.1 引言 | 第77-78页 |
| 4.2 实验方法 | 第78-80页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第80-96页 |
| 4.3.1 ScAl_3C_3在含氟化物溶液中的刻蚀行为 | 第80-83页 |
| 4.3.2 ScAl_3C_3在TMAOH中的刻蚀行为及机制 | 第83-92页 |
| 4.3.3 ScC(OH)二维碳化物的光学及磁学性质 | 第92-96页 |
| 4.4 小结 | 第96-99页 |
| 第五章 结论与展望 | 第99-103页 |
| 参考文献 | 第103-113页 |
| 致谢 | 第113-115页 |
| 个人简历、在学期间发表的论文与研究成果 | 第115-119页 |
