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新型纳米多孔g-C3N4的可控制备、异质结构建及光催化性能

摘要第3-5页
Abstract第5-7页
第一章 绪论第11-34页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 光催化简介第12-15页
        1.2.1 光催化材料第12-13页
        1.2.2 光催化机理研究第13-15页
            1.2.2.1 体内复合第14页
            1.2.2.2 表面复合第14页
            1.2.2.3 电子或空穴发生氧化还原反应第14-15页
    1.3 光催化活性的影响因素第15-19页
        1.3.1 晶体结构第16页
        1.3.2 粒径和吸附能力第16-17页
        1.3.3 缺陷和能级结构第17页
        1.3.4 反应体系pH值的影响第17-18页
        1.3.5 载流子捕获剂的影响第18-19页
        1.3.6 其他影响因素第19页
    1.4 提高半导体材料光催化效率的方法第19-23页
        1.4.1 掺杂第19-20页
        1.4.2 贵金属沉积第20-21页
        1.4.3 表面光敏化第21-22页
        1.4.4 表面还原处理第22页
        1.4.5 半导体复合第22-23页
    1.5 石墨相氮化碳概述第23-30页
        1.5.1 石墨相氮化碳结构性质第24-25页
        1.5.2 g-C_3N_4的制备方法第25-27页
            1.5.2.1 固相反应法第25页
            1.5.2.2 热聚合法第25-26页
            1.5.2.3 溶剂热合成法第26页
            1.5.2.4 电化学沉积法第26-27页
        1.5.3 g-C_3N_4的改性研究第27-30页
            1.5.3.1 形貌调控第27-28页
            1.5.3.2 元素掺杂第28-29页
            1.5.3.3 复合改性第29-30页
    1.6 钛酸盐的制备及光催化应用第30-31页
    1.7 本论文的选题依据及研究内容第31-34页
第二章 实验部分第34-38页
    2.1 实验试剂第34页
    2.2 实验仪器第34-35页
    2.3 样品表征第35-37页
        2.3.1 X射线衍射分析第35页
        2.3.2 透射电子显微镜分析第35-36页
        2.3.3 X射线光电子能谱分析第36页
        2.3.4 光学性能分析第36页
        2.3.5 比表面积分析第36页
        2.3.6 傅里叶红外吸收光谱测试第36页
        2.3.7 荧光光谱分析第36页
        2.3.8 光电化学分析第36-37页
    2.4 光催化实验第37页
    2.5 活性基团检测第37-38页
第三章 多孔类石墨烯g-C_3N_4的制备及光催化性能研究第38-51页
    3.1 引言第38页
    3.2 材料制备第38-39页
    3.3 结果与讨论第39-48页
        3.3.1 X射线衍射分析第39-40页
        3.3.2 形貌分析第40-41页
        3.3.3 氮气等温吸脱附曲线分析第41-42页
        3.3.4 紫外-可见漫反射光谱分析第42-43页
        3.3.5 光电特性分析第43-45页
        3.3.6 光催化性能分析第45-47页
        3.3.7 稳定性能分析第47-48页
    3.4 光催化机理分析第48-50页
    3.5 本章小结第50-51页
第四章 水热合成Z型异质结g-C_3N_4/MnTiO_3及其光催化性能研究第51-67页
    4.1 引言第51页
    4.2 材料制备第51-52页
    4.3 结果与讨论第52-62页
        4.3.1 X射线衍射分析第52-53页
        4.3.2 形貌分析第53-54页
        4.3.3 紫外-可见漫反射光谱分析第54-55页
        4.3.4 氮气等温吸脱附曲线分析第55-56页
        4.3.5 光电特性分析第56-58页
        4.3.6 光催化性能分析第58-62页
    4.4 光催化机理分析第62-65页
    4.5 本章小结第65-67页
第五章 g-C_3N_4/ZnTiO_3-TiO2三元Z型异质结的合成及其光催化性能研究第67-83页
    5.1 引言第67页
    5.2 材料制备与异质结形成机理分析第67-69页
        5.2.1 材料制备第67-68页
        5.2.2 异质结行为分析第68-69页
    5.3 结果与讨论第69-79页
        5.3.1 X射线衍射分析第69-70页
        5.3.2 形貌分析第70-71页
        5.3.3 X射线光电子能谱第71页
        5.3.4 氮气等温吸脱附曲线分析第71-73页
        5.3.5 红外光谱分析第73-74页
        5.3.6 紫外-可见漫反射光谱分析第74-75页
        5.3.7 光电特性分析第75-76页
        5.3.8 光催化性能分析第76-79页
    5.4 光催化机理分析第79-82页
    5.5 本章小结第82-83页
第六章 结论与展望第83-86页
    6.1 结论第83-85页
    6.2 展望第85-86页
参考文献第86-97页
攻读硕士期间取得的成果第97-98页
致谢第98-99页

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