基于PLC和WinCC的玻璃镀膜控制系统优化设计
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 选题背景 | 第10页 |
| 1.2 国内外研究现状及分析 | 第10-12页 |
| 1.2.1 国外研究现状及分析 | 第10-12页 |
| 1.2.2 国内研究现状及分析 | 第12页 |
| 1.3 论文的主要内容和章节安排 | 第12-16页 |
| 第二章 工艺原理及总体设计方案 | 第16-22页 |
| 2.1 玻璃镀膜相关工艺方法 | 第16-17页 |
| 2.2 真空磁控溅射法工艺原理 | 第17-19页 |
| 2.3 系统总体设计方案 | 第19-21页 |
| 2.4 本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 网络结构及系统分析 | 第22-30页 |
| 3.1 网络结构总览 | 第22-23页 |
| 3.2 工业以太网 | 第23-24页 |
| 3.3 现场总线PROFIBUS网络 | 第24-25页 |
| 3.4 系统硬件组态 | 第25-27页 |
| 3.5 系统可靠性 | 第27-28页 |
| 3.6 本章小结 | 第28-30页 |
| 第四章 控制系统设计 | 第30-56页 |
| 4.1 传动控制系统 | 第30-36页 |
| 4.1.1 大气部分传动控制 | 第30-31页 |
| 4.1.2 真空部分传动控制 | 第31-34页 |
| 4.1.3 设备选型 | 第34-36页 |
| 4.2 真空抽气系统 | 第36-43页 |
| 4.2.1 系统控制流程 | 第36-41页 |
| 4.2.2 真空设备选型 | 第41-43页 |
| 4.3 工艺配气系统及磁控溅射系统 | 第43-54页 |
| 4.3.1 工艺配气及磁控溅射硬件结构 | 第43-44页 |
| 4.3.2 工艺配气系统 | 第44-45页 |
| 4.3.3 阴极电源控制 | 第45-52页 |
| 4.3.4 双脉冲电源简介 | 第52-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 上位监控系统 | 第56-66页 |
| 5.1 系统软件选型 | 第56-57页 |
| 5.2 WinCC功能介绍 | 第57-58页 |
| 5.2.1 变量管理器 | 第57页 |
| 5.2.2 图形编辑器 | 第57-58页 |
| 5.2.3 全局脚本 | 第58页 |
| 5.3 上位监控系统功能分析 | 第58-64页 |
| 5.3.1 工艺流程图形化显示功能 | 第58-61页 |
| 5.3.2 系统监视功能 | 第61-62页 |
| 5.3.3 趋势曲线显示 | 第62-63页 |
| 5.3.4 系统控制功能 | 第63-64页 |
| 5.3.5 报警显示 | 第64页 |
| 5.3.6 报表功能 | 第64页 |
| 5.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 第六章 总结与展望 | 第66-68页 |
| 6.1 总结 | 第66页 |
| 6.2 展望 | 第66-68页 |
| 结论 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 附录A 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第76页 |
