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中低能离子致靶二次电子发射系数研究

中文摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 引言第9-18页
    1.1 二次电子发射系数的研究意义第9-11页
    1.2 二次电子发射的研究现状第11-17页
        1.2.1 二次电子发射的研究内容第11-13页
        1.2.2 二次电子发射的一般理论第13-15页
        1.2.3 二次电子发射的实验处理第15-17页
    1.3 课题的主要研究内容第17-18页
第二章 二次电子发射的理论研究第18-33页
    2.1 粒子与物质相互作用基础第18页
    2.2 入射离子在靶物质中的能量损失第18-23页
    2.3 中低能质子致金属靶二次电子发射系数的理论计算第23-29页
    2.4 低能钛离子致靶二次电子发射系数理论计算第29-33页
第三章 二次电子发射的实验工作第33-38页
    3.1 实验原理第33-34页
    3.2 实验设备的设计和加工第34-35页
    3.3 样品的介绍第35页
    3.4 中低能质子致靶二次电子发射系数的测量第35-37页
    3.5 低能钛离子致靶二次电子发射系数的测量第37-38页
第四章 实验数据分析第38-56页
    4.1 中低能质子束致金属氘化物二次电子发射系数的分析第38-45页
        4.1.1 二次电子发射系数随入射能量的变化关系第38-41页
        4.1.2 二次电子发射系数随照射时间的变化关系第41-43页
        4.1.3 质子束致金属氘化物二次电子发射系数实验结果讨论分析第43-45页
    4.2 中低能质子束与金属靶相互作用二次电子发射系数研究第45-51页
        4.2.1 二次电子发射系数随入射能量的变化关系第45-48页
        4.2.2 二次电子发射系数随照射时间的变化关系第48-49页
        4.2.3 质子束致金属样品二次电子发射系数实验结果分析讨论第49-51页
    4.3 低能钛离子束致各样品二次电子发射系数的分析第51-55页
    4.4 质子和钛离子束致各样品二次电子发射系数的比较第55-56页
第五章 总结第56-58页
参考文献第58-61页
在学期间的研究成果第61-62页
致谢第62页

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