| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第11-24页 |
| 1.1 二氧化钛材料的背景 | 第11-17页 |
| 1.1.1 TiO_2的基本性质 | 第11-12页 |
| 1.1.2 TiO_2的能带结构 | 第12-13页 |
| 1.1.3 阳极氧化法制备 TiO_2薄膜 | 第13-14页 |
| 1.1.4 TiO_2纳米材料的改性方法和研究进展 | 第14-17页 |
| 1.1.4.1 元素掺杂 | 第14-15页 |
| 1.1.4.2 复合敏化 | 第15-17页 |
| 1.2 氧化亚铜和/或铜材料的背景 | 第17-20页 |
| 1.2.1 Cu_2O 的基本性质 | 第17页 |
| 1.2.2 偏压控制沉积 Cu_2O 和/或 Cu 颗粒的研究 | 第17-18页 |
| 1.2.3 TiO_2与 Cu_2O 和 Cu 的研究 | 第18-20页 |
| 1.3 Co-Pi 材料的研究背景 | 第20页 |
| 1.4 研究意义和内容 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-24页 |
| 第二章 样品的制备、结构表征、光电化学性质测试 | 第24-34页 |
| 2.1 阳极氧化法制备 TiO_2薄膜 | 第24-27页 |
| 2.1.1 TiO_2薄膜的制备方法 | 第24-26页 |
| 2.1.2 阳极氧化制备 TiO_2薄膜 | 第26-27页 |
| 2.2 电沉积法制备担载颗粒 | 第27-28页 |
| 2.2.1 间断脉冲电沉积法制备 Cu_2O 和/或 Cu 纳米颗粒 | 第27-28页 |
| 2.2.2 恒压沉积法制备 Co-Pi 纳米颗粒 | 第28页 |
| 2.3 样品的表征和分析方法 | 第28-30页 |
| 2.3.1 X 射线衍射(X-ray Diffraction, XRD)测试 | 第28-29页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(Scanning electron microscope, SEM)测试 | 第29-30页 |
| 2.3.3 X 射线光电子谱(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)测试 | 第30页 |
| 2.3.4 紫外可见漫反射光谱（DRS）测试 | 第30页 |
| 2.4 样品光电化学性质的测试 | 第30-33页 |
| 2.4.1 循环伏安法(Cyclic Voltammetry, CV)测试 | 第31页 |
| 2.4.2 线性电势扫描伏安法(Linear Sweep Voltammetry，LSV)测试 | 第31-32页 |
| 2.4.3 电化学阻抗谱(Electrochemical Impedance Spectroscopy, EIS)测试 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 偏压控制 Cu_2O 和 Cu 在 TiO_2表面的生长及其光电化学性质研究 | 第34-48页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 实验方法 | 第35页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第35-45页 |
| 3.3.1 TiO_2薄膜表面生长 Cu_2O 和/或者 Cu 的生长机制探讨 | 第35-41页 |
| 3.3.1.1 TiO_2/Ti 电极的循环伏安测量 | 第35-36页 |
| 3.3.1.2 样品的 SEM 和 XRD 表征 | 第36-38页 |
| 3.3.1.3 样品的 XPS 表征 | 第38-39页 |
| 3.3.1.4 Cu_2O 和 Cu 的生长机制模型 | 第39-40页 |
| 3.3.1.5 建立的两种接触模型的实验验证 | 第40-41页 |
| 3.3.2 TiO_2薄膜表面生长 Cu_2O 和/或者 Cu 的光电性质探讨 | 第41-45页 |
| 3.3.2.1 光电流测试 | 第41-42页 |
| 3.3.2.2 I-V 测试 | 第42-43页 |
| 3.3.2.3 EIS 测试和 UV-Vis 吸收谱测试 | 第43-44页 |
| 3.3.2.4 可见光照射下的光电流对比测试 | 第44-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 第四章 Co-Pi 和 Cu_2O 共修饰 TiO_2薄膜及其光电化学性质研究 | 第48-56页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 实验方法 | 第48-50页 |
| 4.2.1 阳极氧化法制备 TiO_2薄膜 | 第48-49页 |
| 4.2.2 恒压沉积法制备 Co-Pi | 第49页 |
| 4.2.3 脉冲沉积法制备 Cu_2O 颗粒 | 第49页 |
| 4.2.4 样品的结构表征 | 第49页 |
| 4.2.5 光电化学测试 | 第49-50页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第50-54页 |
| 4.3.1 样品的形貌分析 | 第50-51页 |
| 4.3.2 样品的组分分析 | 第51-52页 |
| 4.3.3 样品的光电化学性质 | 第52-53页 |
| 4.3.4 Co-Pi 的沉积时间对样品光电化学性质的影响 | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第五章 总结 | 第56-57页 |
| 攻读学位期间公开发表的论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
