| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 前言 | 第11-12页 |
| 1.2 硬质薄膜 | 第12-14页 |
| 1.2.1 硬质薄膜的介绍 | 第12-13页 |
| 1.2.2 硬质薄膜的分类 | 第13页 |
| 1.2.3 硬质薄膜的应用 | 第13-14页 |
| 1.2.4 国内外硬质薄膜发展现状 | 第14页 |
| 1.3 PVD 硬质薄膜 | 第14-16页 |
| 1.3.1 PVD 硬质薄膜的介绍 | 第14-15页 |
| 1.3.3 PVD 硬质薄膜的发展趋势 | 第15-16页 |
| 1.4 TiN 系硬质薄膜 | 第16-18页 |
| 1.5 电弧离子镀技术 | 第18-20页 |
| 1.6 磁控溅射技术 | 第20-21页 |
| 1.7 本论文的选题背景及研究内容 | 第21-23页 |
| 第二章 实验内容与方法 | 第23-31页 |
| 2.1 样品制备及实验设备 | 第23-27页 |
| 2.1.1 AIP-01X 型多弧离子镀膜机 | 第23-26页 |
| 2.1.2 磁过滤器 | 第26-27页 |
| 2.1.3 磁控溅射镀膜机 | 第27页 |
| 2.1.4 超声清洗设备 | 第27页 |
| 2.2 性能测试仪器及方法 | 第27-31页 |
| 2.2.1 力学测试系统 | 第27-29页 |
| 2.2.2 薄膜物相结构分析 | 第29页 |
| 2.2.3 形貌及成分分析 | 第29页 |
| 2.2.4 粗糙度检测 | 第29-31页 |
| 第三章 磁过滤离子镀技术制备 TiN 薄膜及其性能研究 | 第31-43页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 实验内容 | 第31-33页 |
| 3.2.1 实验设备及材料 | 第31-32页 |
| 3.2.2 实验方法 | 第32-33页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第33-40页 |
| 3.3.1 磁过滤离子镀 TiN 薄膜形貌分析 | 第33-35页 |
| 3.3.2 偏压对磁过滤离子镀 TiN 薄膜性能的影响 | 第35-37页 |
| 3.3.3 磁过滤电流对磁过滤离子镀 TiN 薄膜性能的影响 | 第37-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-43页 |
| 第四章 磁控溅射技术制备 TiAlN 薄膜及其性能研究 | 第43-57页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 实验内容 | 第43-44页 |
| 4.2.1 实验设备及材料 | 第43-44页 |
| 4.2.2 实验方法 | 第44页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第44-48页 |
| 4.3.1 形貌检测 | 第44-46页 |
| 4.3.2 相结构分析 | 第46-47页 |
| 4.3.3 力学性能检测 | 第47-48页 |
| 4.4 高温抗氧化性检测 | 第48-54页 |
| 4.4.1 相结构分析 | 第48-49页 |
| 4.4.2 表面能谱成分分析 | 第49-52页 |
| 4.4.3 截面成分分析 | 第52-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-57页 |
| 第五章 电弧离子镀与磁控溅射复合技术制备 Ti/TiN/TiAlN 复合膜及其性能研究 | 第57-65页 |
| 5.1 引言 | 第57-58页 |
| 5.2 实验内容 | 第58-60页 |
| 5.2.1 实验设备及材料 | 第58-59页 |
| 5.2.2 实验方法 | 第59-60页 |
| 5.3 结果与分析 | 第60-63页 |
| 5.3.1 形貌分析 | 第60-61页 |
| 5.3.2 力学性能检测 | 第61-63页 |
| 5.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第六章 电弧离子镀与磁过滤离子镀复合技术制备 TiN 双层镀层及其性能研究 | 第65-75页 |
| 6.1 引言 | 第65-66页 |
| 6.2 实验内容 | 第66-67页 |
| 6.2.1 实验设备及材料 | 第66页 |
| 6.2.2 实验方法 | 第66-67页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第67-72页 |
| 6.3.1 形貌分析 | 第67-69页 |
| 6.3.2 力学性能分析 | 第69-72页 |
| 6.4 本章小结 | 第72-75页 |
| 结论 | 第75-76页 |
| 本研究的创新性 | 第76页 |
| 下一步研究建议 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-85页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 附件 | 第87页 |
