| 中文摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3页 |
| 中文文摘 | 第4-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-12页 |
| 1.2 铜氧化物概述 | 第12-15页 |
| 1.2.1 氧化铜的基本特性 | 第12-13页 |
| 1.2.2 氧化亚铜的基本特性 | 第13页 |
| 1.2.3 铜氧化物薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| 1.3 AFM在微纳半导体器件中的表征应用 | 第15-18页 |
| 1.3.1 AFM在微纳半导体器件的常规应用 | 第15-16页 |
| 1.3.2 AFM在存储设备领域的表征应用 | 第16-18页 |
| 1.3.3 AFM在光掩模领域的表征应用 | 第18页 |
| 1.4 AFM在锂离子电池原位检测的进展 | 第18-23页 |
| 1.4.1 锂离子电池概述 | 第19-20页 |
| 1.4.2 铜氧化物作为锂离子电池负极材料 | 第20-21页 |
| 1.4.3 原位电化学AFM在电极材料表征方面的应用 | 第21-23页 |
| 1.5 本论文的研究内容及研究思路 | 第23-24页 |
| 第2章 三类基于AFM的微纳检测技术的原理 | 第24-32页 |
| 2.1 基于C-AFM的微纳尺度电子输运测量 | 第24-27页 |
| 2.1.1 C-AFM工作技术原理 | 第24-27页 |
| 2.2 KPFM技术及其表面势和功函数测量 | 第27-29页 |
| 2.2.1 KPFM工作技术原理 | 第27-29页 |
| 2.3 AFM原位电化学测量技术 | 第29-32页 |
| 2.3.1 EC-AFM和SECM的工作技术原理 | 第30-32页 |
| 第3章 薄膜制备方法 | 第32-38页 |
| 3.1 实验耗材及仪器介绍 | 第32-34页 |
| 3.1.1 实验耗材 | 第32页 |
| 3.1.2 实验操作设备和测试仪器 | 第32-34页 |
| 3.2 材料制备工艺 | 第34-36页 |
| 3.2.1 薄膜沉积设备 | 第34-35页 |
| 3.2.2 实验流程 | 第35-36页 |
| 3.3 材料各类性能的其它表征方法 | 第36-38页 |
| 3.3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第36页 |
| 3.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第36页 |
| 3.3.3 紫外-可见分光光度计 | 第36-37页 |
| 3.3.4 电化学性能测试 | 第37-38页 |
| 第4章 磁控溅射制备CuO/Cu_2O薄膜生长条件的探究 | 第38-46页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 实验部分 | 第38-39页 |
| 4.2.1 溅射制备薄膜 | 第38页 |
| 4.2.2 热处理Cu_2O薄膜 | 第38-39页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第39-44页 |
| 4.3.1 纯相Cu_2O制备的探究 | 第39-41页 |
| 4.3.2 热处理对Cu_2O薄膜性能的影响 | 第41-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第5章 CuO纳米线物理性能的微纳检测与带隙调控 | 第46-60页 |
| 5.1 引言 | 第46页 |
| 5.2 实验部分 | 第46-48页 |
| 5.2.1 薄膜的制备 | 第46-47页 |
| 5.2.2 变温功函数测量系统 | 第47页 |
| 5.2.3 C-AFM测量系统 | 第47-48页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第48-58页 |
| 5.3.1 材料形貌结构表征 | 第48-52页 |
| 5.3.2 物理性能表征 | 第52-58页 |
| 5.4 本章小结 | 第58-60页 |
| 第6章 基于AFM的CuO纳米晶线微电池在线研究 | 第60-72页 |
| 6.1 引言 | 第60-61页 |
| 6.2 实验部分 | 第61-62页 |
| 6.2.1 原电池的制作组装及性能表征 | 第61页 |
| 6.2.2 CR2025扣式电池的制作组装及性能表征 | 第61-62页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第62-71页 |
| 6.4 本章小结 | 第71-72页 |
| 第7章 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-86页 |
| 致谢 | 第86-88页 |
| 个人简历 | 第88-92页 |
