| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-33页 |
| 1.1 纳米气泡的发现 | 第8-11页 |
| 1.2 纳米气泡的产生方法 | 第11-15页 |
| 1.2.1 溶液替换法 | 第11-12页 |
| 1.2.2 直接滴加法 | 第12页 |
| 1.2.3 电化学法 | 第12-14页 |
| 1.2.4 控温法 | 第14-15页 |
| 1.3 纳米气泡存在的理论支持 | 第15-21页 |
| 1.3.1 线性张力理论 | 第16-17页 |
| 1.3.2 动态平衡理论 | 第17-18页 |
| 1.3.3 克努森气体理论 | 第18-19页 |
| 1.3.4 杂质理论 | 第19-20页 |
| 1.3.5 高密度理论 | 第20页 |
| 1.3.6 均匀成核理论 | 第20-21页 |
| 1.4 纳米气泡的检测仪器 | 第21-30页 |
| 1.4.1 光学显微镜 | 第22-24页 |
| 1.4.2 SEM成像 | 第24-25页 |
| 1.4.3 SoftX-ray成像 | 第25-26页 |
| 1.4.4 TEM成像 | 第26-27页 |
| 1.4.5 原子力显微镜 | 第27-30页 |
| 1.5 本课题的提出及主要研究内容 | 第30-33页 |
| 第2章 使用不同链长烷基硅烷对基底修饰得到不同疏水性基底 | 第33-45页 |
| 2.1 实验仪器和材料 | 第34-35页 |
| 2.2 实验内容 | 第35-38页 |
| 2.2.1 烷基硅烷修饰硅基底制备 | 第35-36页 |
| 2.2.2 自组装膜的形成过程 | 第36-37页 |
| 2.2.3 AFM探针清洗和AFM扫描 | 第37-38页 |
| 2.2.4 宏观接触角的测量 | 第38页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第38-43页 |
| 2.3.1 AFM成像模式对平整度影响 | 第38-40页 |
| 2.3.2 湿度对修饰基底的平整度研究 | 第40-42页 |
| 2.3.3 基底的宏观接触角的测量结果 | 第42-43页 |
| 2.3.4 基底界面的粗糙度测量 | 第43页 |
| 2.4 小结 | 第43-45页 |
| 第3章 两种纳米气泡的产生方法生成纳米气泡性质的探究 | 第45-56页 |
| 3.1 实验仪器和材料 | 第46-48页 |
| 3.2 实验内容 | 第48-51页 |
| 3.2.1 纳米气泡的生成方法 | 第48页 |
| 3.2.2 冷水法生成气泡过程 | 第48-49页 |
| 3.2.3 醇水替换法的生成的纳米气泡 | 第49-50页 |
| 3.2.4 验证纳米气泡的存在 | 第50-51页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第51-54页 |
| 3.3.1 不同基底上纳米气泡的形态 | 第51-54页 |
| 3.3.2 不同基底上宏观接触角与微观接触角差异 | 第54页 |
| 3.4 小结 | 第54-56页 |
| 第4章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 4.1 总结 | 第56页 |
| 4.2 展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-68页 |
| 研究成果 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |