摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 引言 | 第11-20页 |
1.1 铁电材料 | 第11-12页 |
1.2 Pb(Zr,Ti)0_3 简介及发展现状 | 第12-13页 |
1.3 磁电材料 | 第13-15页 |
1.4 BiFe0_3 的结构及特性 | 第15-17页 |
1.4.1 BiFe0_3 的结构 | 第15页 |
1.4.2 BiFe0_3 的铁电性 | 第15-16页 |
1.4.3 BiFe0_3 的铁磁性 | 第16-17页 |
1.5 BiFe0_3 薄膜的研究现状 | 第17-18页 |
1.6 本论文的主要内容及意义 | 第18-20页 |
第2章 薄膜的制备工艺及检测手段 | 第20-27页 |
2.1 薄膜的制备方法 | 第20-22页 |
2.1.1 磁控溅射法 | 第20-21页 |
2.1.2 Sol-Gel 法 | 第21-22页 |
2.2 薄膜的检测方法 | 第22-27页 |
2.2.1 X 射线衍射 | 第22-23页 |
2.2.2 原子力显微镜 | 第23-24页 |
2.2.3 铁电性能测试 | 第24-25页 |
2.2.4 磁学性能测试 | 第25-27页 |
第3章 SrRu0_3氧化物电极的结构及性能研究 | 第27-33页 |
3.1 实验过程 | 第27页 |
3.2 实验结果与讨论 | 第27-31页 |
3.3 结论 | 第31-33页 |
第4章 SrRu0_3电极对Pb(Zr,Ti)0_3薄膜结构和性能的影响 | 第33-39页 |
4.1 实验过程 | 第33-34页 |
4.1.1 SrRu0_3 薄膜电极的制备 | 第33页 |
4.1.2 Pb(Z1_0.4Ti_0.6)0_3 薄膜及铁电电容器的制备 | 第33-34页 |
4.2 实验结果与分析 | 第34-38页 |
4.3 结论 | 第38-39页 |
第5章 BiFe_0.95M11_0.050_3薄膜的结构和性能研究 | 第39-45页 |
5.1 BiFe0_3 及BiFe_0.95Mn_0.050_3 薄膜的制备 | 第39页 |
5.2 实验结果和分析 | 第39-44页 |
5.3 结论 | 第44-45页 |
第6章 SrRu0_3电极对BiFe_0.95Mn_0.050_3结构及性能的影响 | 第45-50页 |
6.1 实验过程 | 第45-46页 |
6.1.1 SrRu0_3 薄膜电极的制备 | 第45页 |
6.1.2 BiFe_0.95Mn_0.050_3 薄膜及铁电电容器的制备过程 | 第45-46页 |
6.2 实验结果与分析 | 第46-49页 |
6.3 结论 | 第49-50页 |
第7章 外延薄膜的制备探索及其性能研究 | 第50-57页 |
7.1 Pb(Z1_0.4Ti_0.6)0_3 及BiFe_0.95Mn_0.050_3 薄膜的制备 | 第50页 |
7.2 实验结果与分析 | 第50-56页 |
7.2.1 外延Pb(Z10.4Ti0.6)03 薄膜探索 | 第50-52页 |
7.2.2 外延BiFe_0.95Mn_0.050_3 薄膜结构及性能研究 | 第52-56页 |
7.3 结论 | 第56-57页 |
结束语 | 第57-59页 |
参考文献 | 第59-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
攻读硕士期间发表的学术论文 | 第67页 |