| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 课题背景和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 铁电薄膜 | 第11-14页 |
| 1.2.1 PT 基铁电薄膜的发展现状及问题 | 第11-13页 |
| 1.2.2 PT 基铁电薄膜的微观结构表征及电学性能的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3 薄膜的制备方法 | 第14-15页 |
| 1.4 PT 基铁电薄膜的应用 | 第15-17页 |
| 1.4.1 铁电薄膜的红外探测原理 | 第15-16页 |
| 1.4.2 铁电薄膜在存储器方面的应用 | 第16页 |
| 1.4.3 铁电薄膜在微波器件方面的应用 | 第16-17页 |
| 1.5 本论文的研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 试验材料及研究方法 | 第19-25页 |
| 2.1 Sol- Gel 技术的现状及特点 | 第19-20页 |
| 2.2 主要的工艺流程 | 第20-23页 |
| 2.3 主要检测与表征手段 | 第23-25页 |
| 2.3.1 小角 X-ray 散射分析 | 第24页 |
| 2.3.2 薄膜表面粗糙度及显微织构观察 | 第24-25页 |
| 第3章 La/Ca 掺杂 Pb TiO_3薄膜性能与机理研究 | 第25-31页 |
| 3.1 PCT，PLT，PLCT 薄膜的晶体结构 | 第25-27页 |
| 3.2 掺杂对薄膜的剩余极化强度及疲劳特性的研究 | 第27-30页 |
| 3.3 本章小结 | 第30-31页 |
| 第4章 PLCT 薄膜的界面优化与电学性能的研究 | 第31-39页 |
| 4.1 磁控溅射 PLCT 薄膜的制备 | 第31-32页 |
| 4.2 PLCT 薄膜厚度及物相表征 | 第32-34页 |
| 4.3 PLCT 种子层对 PCT 薄膜织构类型的影响 | 第34-35页 |
| 4.4 PLCT 薄膜的界面优化与电学性能研究 | 第35-38页 |
| 4.4.1 PLCT 种子层优化 PCT 铁电薄膜表面形貌 | 第35-36页 |
| 4.4.2 PLCT 种子层优化 PCT 铁电薄膜的漏点特性研究 | 第36-38页 |
| 4.5 本章小结 | 第38-39页 |
| 结论 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-44页 |
| 致谢 | 第44页 |
