| 致谢 | 第4-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 缩略语 | 第10-12页 |
| 1 引言 | 第12-17页 |
| 2 实验材料 | 第17-22页 |
| 2.1 细胞及培养液 | 第17页 |
| 2.2 主要仪器设备 | 第17-18页 |
| 2.3 主要试剂 | 第18-19页 |
| 2.4 主要耗材 | 第19页 |
| 2.5 缓冲液与常用试剂配制 | 第19-20页 |
| 2.6 工频磁场辐照系统 | 第20-21页 |
| 2.7 分析软件 | 第21-22页 |
| 3 实验方法 | 第22-32页 |
| 3.1 工频磁场辐照对FL细胞内神经酰胺含量的影响 | 第22-30页 |
| 3.2 工频磁场暴露下神经酰胺合成的通路 | 第30-31页 |
| 3.3 ROS对工频磁场暴露下神经酰胺含量的影响 | 第31-32页 |
| 4. 实验结果 | 第32-36页 |
| 4.1 工频磁场辐照对FL细胞内神经酰胺含量的影响 | 第32页 |
| 4.2 工频磁场暴露下神经酰胺合成的通路 | 第32-34页 |
| 4.3 ROS对工频磁场暴露下神经酰胺含量的影响 | 第34-36页 |
| 5. 讨论 | 第36-40页 |
| 6. 结论 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-48页 |
| 综述 | 第48-59页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 作者简介及硕士期间取得的科研成果 | 第59页 |