| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 油品脱硫的意义 | 第11-12页 |
| 1.2 油品中硫的分布 | 第12-13页 |
| 1.2.1 原油中硫的分布 | 第12页 |
| 1.2.2 汽油中硫的分布 | 第12页 |
| 1.2.3 柴油中硫的分布 | 第12-13页 |
| 1.3 吸附法脱硫 | 第13-15页 |
| 1.3.1 分子筛吸附脱硫 | 第13-14页 |
| 1.3.2 活性炭吸附脱硫 | 第14-15页 |
| 1.3.3 金属氧化物吸附脱硫 | 第15页 |
| 1.4 印迹脱硫 | 第15-19页 |
| 1.4.1 传统印迹脱硫 | 第16-17页 |
| 1.4.2 表面分子印迹脱硫 | 第17-19页 |
| 1.5 络合法脱硫 | 第19页 |
| 1.6 其它方法脱硫 | 第19页 |
| 1.7 分子印迹技术 | 第19-21页 |
| 1.7.1 分子印迹技术的发展 | 第19-20页 |
| 1.7.2 分子印迹材料的作用力 | 第20-21页 |
| 1.8 分子印迹材料的制备 | 第21-23页 |
| 1.8.1 制备所需原料 | 第21页 |
| 1.8.2 沉淀聚合法 | 第21-22页 |
| 1.8.3 乳液聚合法 | 第22页 |
| 1.8.4 模板聚合法 | 第22-23页 |
| 1.8.5 可控自由基聚合法 | 第23页 |
| 1.9 分子印迹材料的应用 | 第23-24页 |
| 1.9.1 污水处理 | 第23页 |
| 1.9.2 药物分离 | 第23-24页 |
| 1.9.3 分析检测 | 第24页 |
| 1.9.4 电化学传感器 | 第24页 |
| 1.10 结语与展望 | 第24-25页 |
| 1.11 选题和研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 物理包覆法制备印迹脱硫材料及其脱硫研究 | 第27-46页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第27页 |
| 2.2 实验流程 | 第27-28页 |
| 2.3 主要的实验方法 | 第28-31页 |
| 2.3.1 原料预处理 | 第28页 |
| 2.3.2 印迹材料的制备 | 第28-29页 |
| 2.3.3 静态吸附实验 | 第29-30页 |
| 2.3.4 变温吸附实验 | 第30-31页 |
| 2.3.5 竞争吸附实验 | 第31页 |
| 2.3.6 再生性吸附实验 | 第31页 |
| 2.4 结果讨论 | 第31-44页 |
| 2.4.1 最佳制备条件探讨 | 第32-39页 |
| 2.4.2 静态吸附动力学曲线及变温实验 | 第39-41页 |
| 2.4.3 特异识别性能研究 | 第41-42页 |
| 2.4.4 再生使用性能 | 第42-43页 |
| 2.4.5 红外谱图分析 | 第43-44页 |
| 2.4.6 扫描电镜分析 | 第44页 |
| 2.5 本章小节 | 第44-46页 |
| 第三章 化学修饰法制备印迹脱硫材料及其脱硫研究 | 第46-67页 |
| 3.1 引言 | 第46-47页 |
| 3.2 实验原料 | 第47页 |
| 3.3 实验流程 | 第47页 |
| 3.4 实验方法 | 第47-51页 |
| 3.4.1 SiO2的硅烷化修饰 | 第47-48页 |
| 3.4.2 印迹材料的制备 | 第48-50页 |
| 3.4.3 静态吸附实验 | 第50页 |
| 3.4.4 变温吸附实验 | 第50页 |
| 3.4.5 竞争吸附实验 | 第50页 |
| 3.4.6 再生性吸附实验 | 第50页 |
| 3.4.7 实验表征 | 第50-51页 |
| 3.5 结果讨论 | 第51-65页 |
| 3.5.1 硅烷修饰反应条件 | 第51-54页 |
| 3.5.2 印迹材料制备条件 | 第54-60页 |
| 3.5.3 静态吸附动力学曲线及变温吸附 | 第60-62页 |
| 3.5.4 特异性吸附性能研究 | 第62-63页 |
| 3.5.5 再生使用性能 | 第63-64页 |
| 3.5.6 红外谱图分析 | 第64-65页 |
| 3.5.7 扫描电镜分析 | 第65页 |
| 3.6 本章小结 | 第65-67页 |
| 第四章 含金属离子印迹脱硫材料的制备及其脱硫研究 | 第67-82页 |
| 4.1 引言 | 第67页 |
| 4.2 实验原料 | 第67-68页 |
| 4.3 直接法法制备MMIP | 第68-69页 |
| 4.4 间接法法制备M-MIP | 第69-70页 |
| 4.5 结果与讨论 | 第70-81页 |
| 4.5.1 直接法金属离子改性对印迹材料吸附容量的影响 | 第70-73页 |
| 4.5.2 直接法金属离子改性对印迹材料特异性吸附性能的影响 | 第73-74页 |
| 4.5.3 直接法金属离子改性对印迹材料循环使用性能的影响 | 第74-75页 |
| 4.5.4 间接法金属离子改性对印迹材料附吸附容量的影响 | 第75-78页 |
| 4.5.5 间接法金属离子改性对印迹材料竞争性吸附性能的影响 | 第78-79页 |
| 4.5.6 间接法金属离子改性对印迹材料再生吸附性能的影响 | 第79页 |
| 4.5.7 扫描电镜分析 | 第79-81页 |
| 4.6 本章小结 | 第81-82页 |
| 结论 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
