| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 微波铁氧体材料 | 第10-12页 |
| 1.2.1 尖晶石型铁氧体 | 第10-11页 |
| 1.2.2 磁铅石型铁氧体 | 第11页 |
| 1.2.3 石榴石型铁氧体 | 第11-12页 |
| 1.3 钇铁石榴石(Y_3Fe_5O_(12)或YIG)薄膜 | 第12-16页 |
| 1.3.1 YIG薄膜的晶体结构及磁性来源 | 第12-13页 |
| 1.3.2 YIG薄膜的磁畴和磁滞回线 | 第13-14页 |
| 1.3.3 YIG薄膜的发展和现状 | 第14-15页 |
| 1.3.4 微波频段下磁电复合薄膜的研究动态 | 第15-16页 |
| 1.4 YIG薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.4.1 磁控溅射法 | 第16页 |
| 1.4.2 液相外延法(LPE) | 第16-17页 |
| 1.4.3 脉冲激光沉积法(PLD) | 第17页 |
| 1.4.4 金属有机化学气相沉积法(MOCVD) | 第17-18页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 制备工艺与测试技术 | 第20-30页 |
| 2.1 YIG薄膜沉积的工艺方法 | 第20-23页 |
| 2.1.1 射频磁控溅射系统简介 | 第20-21页 |
| 2.1.2 RF磁控溅射原理 | 第21-23页 |
| 2.1.3 RF磁控溅射的特点及优势 | 第23页 |
| 2.2 YIG薄膜的制备 | 第23-25页 |
| 2.3 YIG薄膜的性能表征 | 第25-30页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析仪 | 第25-26页 |
| 2.3.2 扫描探针显微镜 | 第26页 |
| 2.3.3 薄膜厚度测试 | 第26-27页 |
| 2.3.4 薄膜介电性能测试 | 第27页 |
| 2.3.5 超导量子干涉磁测量系统(SQUID) | 第27-28页 |
| 2.3.6 光电子能谱仪(XPS) | 第28-30页 |
| 第3章 射频磁控溅射参数对YIG薄膜结构及磁性能的影响 | 第30-42页 |
| 3.1 初步研究沉积参数对薄膜生长的影响 | 第30-34页 |
| 3.1.1 沉积时间 | 第30-31页 |
| 3.1.2 溅射功率 | 第31-32页 |
| 3.1.3 衬底温度 | 第32-33页 |
| 3.1.4 溅射气压 | 第33-34页 |
| 3.2 氧氩比对YIG薄膜性能的影响 | 第34-39页 |
| 3.2.1 对薄膜结晶性的影响 | 第35页 |
| 3.2.2 对薄膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.3 对薄膜磁性能的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.4 对薄膜微观结构的影响 | 第37-39页 |
| 3.3 退火温度对YIG薄膜的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.1 退火温度对YIG薄膜结晶性的影响 | 第40页 |
| 3.3.2 退火温度对YIG薄膜磁性能的影响 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 射频磁控溅射制备BaTiO_3薄膜 | 第42-50页 |
| 4.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.2 实验结果与分析 | 第43-48页 |
| 4.2.1 不同衬底温度对BaTiO_3薄膜性能的影响 | 第43-44页 |
| 4.2.2 不同氧氩比对BaTiO_3薄膜性能的影响 | 第44-45页 |
| 4.2.3 不同退火温度对BaTiO_3薄膜性能的影响 | 第45-47页 |
| 4.2.4 BaTiO_3薄膜的电滞回线 | 第47-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-50页 |
| 第5章 BaTiO_3-YIG磁电复合薄膜性能的研究 | 第50-60页 |
| 5.1 引言 | 第50-52页 |
| 5.2 不同沉积顺序对复合薄膜晶体结构和性能的影响 | 第52-57页 |
| 5.2.1 复合薄膜的晶体结构 | 第52-53页 |
| 5.2.2 复合薄膜的表面形貌图 | 第53页 |
| 5.2.3 复合薄膜的铁电性能 | 第53-56页 |
| 5.2.4 复合薄膜的磁性能 | 第56-57页 |
| 5.2.5 外加磁场对YB型复合薄膜介电性能的影响 | 第57页 |
| 5.3 本章小结 | 第57-60页 |
| 第6章 总结 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
| 读硕士学位期间的科研成果 | 第70页 |
