| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 电磁超材料的背景意义 | 第10-11页 |
| 1.1.1 电磁超材料概述 | 第10-11页 |
| 1.1.2 电磁超材料发展概览 | 第11页 |
| 1.2 太赫兹波概述 | 第11-14页 |
| 1.2.1 太赫兹波的特征 | 第12-13页 |
| 1.2.2 太赫兹波的应用 | 第13-14页 |
| 1.3 基于电磁超材料的太赫兹器件 | 第14-15页 |
| 1.4 电磁超材料 | 第15-17页 |
| 1.4.1 电磁超材料吸波体 | 第15-16页 |
| 1.4.2 氧化钒电磁超材料 | 第16-17页 |
| 1.5 本文的主要内容及创新点 | 第17-19页 |
| 第二章 基本理论概述 | 第19-28页 |
| 2.1 电磁超材料的基本理论 | 第19-23页 |
| 2.1.1 磁超材料的概念及基本特征 | 第21-22页 |
| 2.1.2 电超材料的概念及基本特征 | 第22-23页 |
| 2.2 超材料吸波的基本原理 | 第23-24页 |
| 2.2.1 吸收率 | 第23页 |
| 2.2.2 吸波材料的吸波机理 | 第23-24页 |
| 2.3 电磁超材料电磁参数的Smith参数反演法 | 第24-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 附加金属条对太赫兹超材料吸波体的调控研究 | 第28-46页 |
| 3.1 超材料吸波体的结构单元 | 第28-30页 |
| 3.2 超材料吸波体的模拟方法 | 第30页 |
| 3.3 超材料吸波体的仿真结果与讨论 | 第30-44页 |
| 3.3.1 超材料吸波体的调控规律 | 第30-38页 |
| 3.3.2 超材料吸波体表面电流及沿Z轴损耗的分布情况 | 第38-43页 |
| 3.3.3 超材料吸波体对不同入射角的响应特性 | 第43-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 溶胶-凝胶法制备氧化钒薄膜的工艺优化 | 第46-63页 |
| 4.1 溶胶-凝胶法制备氧化钒薄膜 | 第46-47页 |
| 4.1.1 实验仪器和试剂 | 第46页 |
| 4.1.2 实验步骤 | 第46-47页 |
| 4.2 旋涂次数对氧化钒薄膜的影响 | 第47-55页 |
| 4.2.1 金相显微镜的表征及分析 | 第47-48页 |
| 4.2.2 紫外-可见光光谱测试及分析 | 第48-49页 |
| 4.2.3 光学带隙 | 第49-50页 |
| 4.2.4 傅里叶红外光谱测试及分析 | 第50-51页 |
| 4.2.5 椭偏光谱的拟合分析 | 第51-54页 |
| 4.2.6 薄膜电学性能测试及分析 | 第54-55页 |
| 4.3 工艺重复次数对氧化钒薄膜的影响 | 第55-62页 |
| 4.3.1 金相显微镜的表征及分析 | 第56-57页 |
| 4.3.2 紫外-可见光光谱测试及分析 | 第57-58页 |
| 4.3.3 光学带隙 | 第58页 |
| 4.3.4 傅里叶红外光谱测试及分析 | 第58-59页 |
| 4.3.5 椭偏光谱的拟合分析 | 第59-61页 |
| 4.3.6 薄膜电学性能测试及分析 | 第61-62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 氧化钒超材料的设计、仿真及制作研究 | 第63-71页 |
| 5.1 氧化钒超材料的设计与仿真 | 第63-64页 |
| 5.2 氧化钒超材料的制作工艺 | 第64-68页 |
| 5.2.1 掩膜的制作 | 第65-67页 |
| 5.2.2 氧化钒超材料的实现工艺流程 | 第67-68页 |
| 5.3 氧化钒超材料的太赫兹响应测试 | 第68-70页 |
| 5.4 本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 总结与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 总结 | 第71-72页 |
| 6.2 展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第80-81页 |