| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-28页 |
| 1.1 前言 | 第11-15页 |
| 1.1.1 光电化学的产生背景 | 第11-12页 |
| 1.1.2 光电化学的基本原理 | 第12页 |
| 1.1.3 光电化学的应用现状 | 第12-15页 |
| 1.2 半导体光电材料的研究概况 | 第15-17页 |
| 1.2.1 光电材料概述 | 第15-16页 |
| 1.2.2 半导体光电材料的研究进展 | 第16-17页 |
| 1.3 氮化碳材料的研究 | 第17-22页 |
| 1.3.1 氮化碳材料的结构 | 第18-20页 |
| 1.3.2 氮化碳材料的合成方法 | 第20-22页 |
| 1.4 氮化碳材料的改性 | 第22-27页 |
| 1.5 本文研究意义及内容 | 第27-28页 |
| 第二章 不同条件下制备的氮化碳光电性能研究 | 第28-40页 |
| 2.1 引言 | 第28-29页 |
| 2.2 实验部分 | 第29-32页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第29-30页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第30页 |
| 2.2.3 材料的制备 | 第30-31页 |
| 2.2.4 光电性能测试 | 第31-32页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第32-39页 |
| 2.3.1 X射线衍射 (XRD) 分析 | 第32-33页 |
| 2.3.2 傅立叶变换红外 (FT-IR) 光谱分析 | 第33页 |
| 2.3.3 透射电镜 (TEM) 分析 | 第33-34页 |
| 2.3.4 氮化碳的紫外-可见漫反射光谱 (DRS) 分析 | 第34-35页 |
| 2.3.5 光电化学性能测试 | 第35-36页 |
| 2.3.6 光电化学检测 | 第36-39页 |
| 2.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 Au/CNH光电材料的制备及其光电性能研究 | 第40-51页 |
| 3.1 引言 | 第40-41页 |
| 3.2 实验部分 | 第41-43页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第41页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第41-42页 |
| 3.2.3 材料的制备 | 第42页 |
| 3.2.4 光电性能测试 | 第42-43页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第43-50页 |
| 3.3.1 X射线衍射 (XRD) 分析 | 第43页 |
| 3.3.2 傅立叶变换红外 (FT-IR) 光谱分析 | 第43-44页 |
| 3.3.3 X射线光电子能谱 (XPS) 分析 | 第44-45页 |
| 3.3.4 表面元素分布 (Mapping) 和透射电镜 (TEM) 分析 | 第45-46页 |
| 3.3.5 紫外-可见漫反射光谱 (DRS) 和光致发光光谱 (PL) 分析 | 第46-47页 |
| 3.3.6 光电化学性能测试 | 第47-49页 |
| 3.3.7 光电化学检测 | 第49-50页 |
| 3.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 Cu/GCN光电材料的制备及其光电性能研究 | 第51-64页 |
| 4.1 引言 | 第51-52页 |
| 4.2 实验部分 | 第52-54页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第52页 |
| 4.2.2 实验仪器 | 第52-53页 |
| 4.2.3 材料的制备 | 第53-54页 |
| 4.2.4 光电性能测试 | 第54页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第54-63页 |
| 4.3.1 X射线衍射 (XRD) 分析 | 第54-55页 |
| 4.3.2 傅立叶变换红外 (FT-IR) 光谱分析 | 第55-56页 |
| 4.3.3 X射线光电子能谱 (XPS) 分析 | 第56-57页 |
| 4.3.4 扫描电镜 (SEM) 和表面元素分布 (Mapping) 分析 | 第57-58页 |
| 4.3.5 紫外-可见漫反射光谱 (DRS) 和光致发光光谱 (PL) 分析 | 第58-59页 |
| 4.3.6 光电化学性能测试 | 第59-60页 |
| 4.3.7 光电化学检测 | 第60-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 结论与展望 | 第64-67页 |
| 5.1 结论 | 第64-66页 |
| 5.2 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和其他成果 | 第78页 |
