Co2MnSi薄膜的制备与表征
摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-16页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 哈斯勒合金基础理论 | 第11-13页 |
1.3 哈斯勒合金的应用研究现状 | 第13-14页 |
1.4 本课题的研究内容及意义 | 第14-16页 |
第二章 CMS薄膜制备与表征方法 | 第16-24页 |
2.1 引言 | 第16页 |
2.2 CMS薄膜的制备 | 第16-19页 |
2.2.1 制备工艺 | 第17页 |
2.2.2 样品结构 | 第17-18页 |
2.2.3 溅射速率的测定 | 第18-19页 |
2.3 CMS薄膜的表征 | 第19-24页 |
2.3.1 台阶仪(SP) | 第19页 |
2.3.2 X射线衍射仪(XRD) | 第19-20页 |
2.3.3 振动样品磁强计(VSM) | 第20-21页 |
2.3.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第21-22页 |
2.3.5 原子力显微镜(AFM) | 第22页 |
2.3.6 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第22-24页 |
第三章 缓冲层对CMS薄膜的影响 | 第24-31页 |
3.1 引言 | 第24-25页 |
3.2 缓冲层种类对CMS薄膜结构性能影响 | 第25-27页 |
3.2.1 X射线衍射结果分析 | 第25-26页 |
3.2.2 AFM结果分析 | 第26页 |
3.2.3 VSM结果分析 | 第26-27页 |
3.3 缓冲层厚度对CMS薄膜结构性能影响 | 第27-30页 |
3.3.1 X射线衍射结果分析 | 第27-28页 |
3.3.2 SEM结果分析 | 第28-29页 |
3.3.3 VSM结果分析 | 第29-30页 |
3.4 小结 | 第30-31页 |
第四章 薄膜厚度对CMS薄膜的影响 | 第31-39页 |
4.1 引言 | 第31-32页 |
4.2 不同厚度CMS薄膜的微观结构 | 第32-35页 |
4.2.1 X射线衍射结果分析 | 第32-34页 |
4.2.2 SEM结果分析 | 第34-35页 |
4.3 不同厚度CMS薄膜的磁性能 | 第35-37页 |
4.4 小结 | 第37-39页 |
第五章 退火温度对CMS薄膜的影响 | 第39-48页 |
5.1 引言 | 第39-40页 |
5.2 在不同温度下退火CMS薄膜的微观结构 | 第40-42页 |
5.2.1 X射线衍射结果分析 | 第40-42页 |
5.2.2 SEM结果分析 | 第42页 |
5.3 在不同温度下退火CMS薄膜的磁性能 | 第42-47页 |
5.3.1 VSM结果分析 | 第42-45页 |
5.3.2 XPS结果分析 | 第45-47页 |
5.4 小结 | 第47-48页 |
结论 | 第48-49页 |
参考文献 | 第49-52页 |
附录:研究生期间发表的论文 | 第52-53页 |
致谢 | 第53页 |