Co2MnSi薄膜的制备与表征
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-16页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 哈斯勒合金基础理论 | 第11-13页 |
| 1.3 哈斯勒合金的应用研究现状 | 第13-14页 |
| 1.4 本课题的研究内容及意义 | 第14-16页 |
| 第二章 CMS薄膜制备与表征方法 | 第16-24页 |
| 2.1 引言 | 第16页 |
| 2.2 CMS薄膜的制备 | 第16-19页 |
| 2.2.1 制备工艺 | 第17页 |
| 2.2.2 样品结构 | 第17-18页 |
| 2.2.3 溅射速率的测定 | 第18-19页 |
| 2.3 CMS薄膜的表征 | 第19-24页 |
| 2.3.1 台阶仪（SP） | 第19页 |
| 2.3.2 X射线衍射仪（XRD） | 第19-20页 |
| 2.3.3 振动样品磁强计（VSM） | 第20-21页 |
| 2.3.4 扫描电子显微镜（SEM） | 第21-22页 |
| 2.3.5 原子力显微镜（AFM） | 第22页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第22-24页 |
| 第三章 缓冲层对CMS薄膜的影响 | 第24-31页 |
| 3.1 引言 | 第24-25页 |
| 3.2 缓冲层种类对CMS薄膜结构性能影响 | 第25-27页 |
| 3.2.1 X射线衍射结果分析 | 第25-26页 |
| 3.2.2 AFM结果分析 | 第26页 |
| 3.2.3 VSM结果分析 | 第26-27页 |
| 3.3 缓冲层厚度对CMS薄膜结构性能影响 | 第27-30页 |
| 3.3.1 X射线衍射结果分析 | 第27-28页 |
| 3.3.2 SEM结果分析 | 第28-29页 |
| 3.3.3 VSM结果分析 | 第29-30页 |
| 3.4 小结 | 第30-31页 |
| 第四章 薄膜厚度对CMS薄膜的影响 | 第31-39页 |
| 4.1 引言 | 第31-32页 |
| 4.2 不同厚度CMS薄膜的微观结构 | 第32-35页 |
| 4.2.1 X射线衍射结果分析 | 第32-34页 |
| 4.2.2 SEM结果分析 | 第34-35页 |
| 4.3 不同厚度CMS薄膜的磁性能 | 第35-37页 |
| 4.4 小结 | 第37-39页 |
| 第五章 退火温度对CMS薄膜的影响 | 第39-48页 |
| 5.1 引言 | 第39-40页 |
| 5.2 在不同温度下退火CMS薄膜的微观结构 | 第40-42页 |
| 5.2.1 X射线衍射结果分析 | 第40-42页 |
| 5.2.2 SEM结果分析 | 第42页 |
| 5.3 在不同温度下退火CMS薄膜的磁性能 | 第42-47页 |
| 5.3.1 VSM结果分析 | 第42-45页 |
| 5.3.2 XPS结果分析 | 第45-47页 |
| 5.4 小结 | 第47-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 附录：研究生期间发表的论文 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53页 |
