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Co2MnSi薄膜的制备与表征

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第11-16页
    1.1 引言第11页
    1.2 哈斯勒合金基础理论第11-13页
    1.3 哈斯勒合金的应用研究现状第13-14页
    1.4 本课题的研究内容及意义第14-16页
第二章 CMS薄膜制备与表征方法第16-24页
    2.1 引言第16页
    2.2 CMS薄膜的制备第16-19页
        2.2.1 制备工艺第17页
        2.2.2 样品结构第17-18页
        2.2.3 溅射速率的测定第18-19页
    2.3 CMS薄膜的表征第19-24页
        2.3.1 台阶仪(SP)第19页
        2.3.2 X射线衍射仪(XRD)第19-20页
        2.3.3 振动样品磁强计(VSM)第20-21页
        2.3.4 扫描电子显微镜(SEM)第21-22页
        2.3.5 原子力显微镜(AFM)第22页
        2.3.6 X射线光电子能谱分析(XPS)第22-24页
第三章 缓冲层对CMS薄膜的影响第24-31页
    3.1 引言第24-25页
    3.2 缓冲层种类对CMS薄膜结构性能影响第25-27页
        3.2.1 X射线衍射结果分析第25-26页
        3.2.2 AFM结果分析第26页
        3.2.3 VSM结果分析第26-27页
    3.3 缓冲层厚度对CMS薄膜结构性能影响第27-30页
        3.3.1 X射线衍射结果分析第27-28页
        3.3.2 SEM结果分析第28-29页
        3.3.3 VSM结果分析第29-30页
    3.4 小结第30-31页
第四章 薄膜厚度对CMS薄膜的影响第31-39页
    4.1 引言第31-32页
    4.2 不同厚度CMS薄膜的微观结构第32-35页
        4.2.1 X射线衍射结果分析第32-34页
        4.2.2 SEM结果分析第34-35页
    4.3 不同厚度CMS薄膜的磁性能第35-37页
    4.4 小结第37-39页
第五章 退火温度对CMS薄膜的影响第39-48页
    5.1 引言第39-40页
    5.2 在不同温度下退火CMS薄膜的微观结构第40-42页
        5.2.1 X射线衍射结果分析第40-42页
        5.2.2 SEM结果分析第42页
    5.3 在不同温度下退火CMS薄膜的磁性能第42-47页
        5.3.1 VSM结果分析第42-45页
        5.3.2 XPS结果分析第45-47页
    5.4 小结第47-48页
结论第48-49页
参考文献第49-52页
附录:研究生期间发表的论文第52-53页
致谢第53页

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