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基于表面等离子体的新型光子器件研究

致谢第5-6页
摘要第6-8页
Abstract第8-9页
目录第10-13页
第1章 绪论第13-29页
    1.1 引言第13页
    1.2 光子学的研究现状第13-17页
        1.2.1 光子学的研究历史及概况第13-14页
        1.2.2 光子器件的发展方向第14-17页
    1.3 表面等离子体及其研究进展第17-26页
        1.3.1 表面等离子体的发展现状第17-22页
        1.3.2 表面等离子体在光子器件中的应用第22-26页
    1.4 本论文的主要工作第26-29页
第2章 表面等离子体基本理论第29-45页
    2.1 引言第29页
    2.2 金属色散模型第29-31页
    2.3 表面等离子体原理第31-37页
        2.3.1 表面等离子体的色散关系第31-34页
        2.3.2 表面等离子体的激发第34-37页
    2.4 多层表面等离子体第37-43页
        2.4.1 多层表面等离子体色散关系第37-40页
        2.4.2 多层表面等离子体结构第40-43页
    2.5 本章小结第43-45页
第3章 长程介质加载表面等离子体波导及谐振器仿真第45-67页
    3.1 引言第45页
    3.2 长程介质加载表面等离子体波导第45-52页
        3.2.1 波导结构第45-47页
        3.2.2 仿真结果第47-52页
    3.3 长程介质加载表面等离子体谐振器第52-56页
        3.3.1 谐振器结构第52-53页
        3.3.2 仿真结果第53-56页
    3.4 CMOS兼容长程介质加载表面等离子体波导第56-65页
        3.4.1 波导结构第56-57页
        3.4.2 仿真结果第57-65页
    3.5 本章小结第65-67页
第4章 长程介质加载表面等离子体波导及器件加工第67-81页
    4.1 引言第67页
    4.2 加工工艺介绍第67-74页
        4.2.1 金属镀膜第67-68页
        4.2.2 电子束曝光第68-70页
        4.2.3 光刻胶以及显影剥离处理第70-71页
        4.2.4 加工流程第71-74页
    4.3 波导及器件性能测试第74-79页
        4.3.1 波导尺寸测量第74-75页
        4.3.2 波导传输特性测量第75-77页
        4.3.3 Mach-Zehnder干涉仪传输特性测量第77-79页
    4.4 本章小结第79-81页
第5章 长程表面等离子体调制器第81-95页
    5.1 引言第81页
    5.2 宽带微波电光调制器第81-89页
        5.2.1 调制器结构第81-83页
        5.2.2 调制器参数优化第83-89页
    5.3 全光调制器第89-93页
        5.3.1 调制器结构第89-91页
        5.2.2 调制器参数优化第91-93页
    5.4 本章小结第93-95页
第6章 同轴光纤射频天线第95-115页
    6.1 引言第95页
    6.2 倾斜光纤光栅及制作第95-99页
        6.2.1 倾斜光纤光栅频谱特性第95-97页
        6.2.2 倾斜光纤光栅制作第97-99页
    6.3 光纤光栅传感器第99-107页
        6.3.1 基于受激布里渊散射的倾斜光纤光栅传感器第99-104页
        6.3.2 表面等离子体光纤光栅传感器第104-107页
    6.4 同轴光纤射频天线设计第107-113页
        6.4.1 微波光子接收技术与器件第107-110页
        6.4.2 天线结构设计第110-113页
    6.5 本章小结第113-115页
第7章 总结与展望第115-119页
参考文献第119-135页
攻读博士期间科研成果第135页

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