摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4页 |
第1章 绪论 | 第8-25页 |
1.1 课题的目的和意义 | 第8-9页 |
1.2 MoS_2简介 | 第9-12页 |
1.2.1 MoS_2的结构及势函数 | 第9-11页 |
1.2.2 MoS_2的制备和应用 | 第11-12页 |
1.3 空间原子氧环境与效应 | 第12-14页 |
1.3.1 空间原子氧环境 | 第12-13页 |
1.3.2 AO效应 | 第13-14页 |
1.4 MoS_2吸附气体的数值模拟 | 第14-23页 |
1.4.1 MoS_2(001)晶面的吸附能 | 第14-21页 |
1.4.2 MoS_2(100)或(010)晶面的吸附 | 第21-22页 |
1.4.3 原子氧对MoS_2的危害 | 第22-23页 |
1.5 主要研究内容 | 第23-25页 |
第2章 计算方法与试验方法 | 第25-36页 |
2.1 吸附能的计算方法 | 第25-26页 |
2.2 分子动力学理论 | 第26-28页 |
2.2.1 lammps简介 | 第26页 |
2.2.2 边界条件 | 第26-27页 |
2.2.3 velocity verlet算法 | 第27页 |
2.2.4 积分步长的选取 | 第27-28页 |
2.3 多体势函数 | 第28-30页 |
2.3.1 SW势函数 | 第28页 |
2.3.2 ReaxFF势函数 | 第28-30页 |
2.4 系综的选择 | 第30-32页 |
2.4.1 微正则 | 第30-31页 |
2.4.2 正则系综 | 第31-32页 |
2.4.3 等温等压系综 | 第32页 |
2.5 计算过程及方法 | 第32-33页 |
2.5.1 计算模型 | 第32-33页 |
2.5.2 计算方法 | 第33页 |
2.6 MoS_2的AO暴露试验 | 第33-36页 |
2.6.1 试验材料 | 第33-34页 |
2.6.2 试验设备 | 第34页 |
2.6.3 AO暴露试验 | 第34-35页 |
2.6.4 暴露试验测试方法 | 第35-36页 |
第3章 AO与不同温度的MoS_2相互作用的数值模拟 | 第36-50页 |
3.1 AO在MoS_2表面的吸附作用 | 第36-37页 |
3.2 不同温度下组元的截面分布 | 第37-39页 |
3.3 不同温度下的径向分布函数 | 第39-45页 |
3.4 不同温度下反应的AO数目 | 第45页 |
3.5 化合价随温度的变化 | 第45-46页 |
3.6 不同温度下受AO影响的深度 | 第46-48页 |
3.7 本章小结 | 第48-50页 |
第4章 不同速度AO与MoS_2相互作用的数值模拟 | 第50-61页 |
4.1 不同AO速度下组元截面分布 | 第50-52页 |
4.2 径向分布函数随AO速度的变化 | 第52-56页 |
4.3 参与反应的不同速度AO数目 | 第56-57页 |
4.4 化合价随AO速度的变化 | 第57-58页 |
4.5 不同速度AO的影响区深度 | 第58-60页 |
4.6 本章小结 | 第60-61页 |
第5章 AO与不同晶面MoS_2相互作用的数值模拟 | 第61-71页 |
5.1 MoS_2的晶面类型 | 第61页 |
5.2 组元截面分布图随晶面的变化 | 第61-63页 |
5.3 不同晶面的径向分布函数 | 第63-66页 |
5.4 与不同晶面反应的AO数目 | 第66-67页 |
5.5 不同晶面化合价的变化 | 第67-68页 |
5.6 AO对不同晶面的影响区深度 | 第68-69页 |
5.7 本章小结 | 第69-71页 |
第6章 AO与MoS_2相互作用的试验验证 | 第71-79页 |
6.1 质量变化 | 第71-72页 |
6.2 暴露试验前后的表面形貌 | 第72-75页 |
6.3 晶体结构分析 | 第75-76页 |
6.4 化合价分析 | 第76-78页 |
6.5 本章小结 | 第78-79页 |
结论 | 第79-81页 |
参考文献 | 第81-86页 |
附录一 | 第86-92页 |
致谢 | 第92页 |