摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-28页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 纳米多层薄膜 | 第11-14页 |
1.2.1 纳米多层膜的定义 | 第11页 |
1.2.2 多层膜的硬度及致硬机理 | 第11-13页 |
1.2.3 多层膜的摩擦磨损性能 | 第13-14页 |
1.3 多层膜的制备方法 | 第14-17页 |
1.3.1 多弧离子镀 | 第15页 |
1.3.2 磁控溅射 | 第15-16页 |
1.3.3 等离子体化学气相沉积 | 第16页 |
1.3.4 离子束辅助沉积 | 第16-17页 |
1.4 WS_2薄膜概述 | 第17-21页 |
1.4.1 WS_2薄膜的基本性质 | 第17-19页 |
1.4.2 WS_2薄膜的制备方法 | 第19-20页 |
1.4.3 WS_2薄膜的固体润滑机理 | 第20页 |
1.4.4 WS_2薄膜存在的问题 | 第20-21页 |
1.5 非晶碳(a-C)膜 | 第21-24页 |
1.5.1 非晶碳(a-C)膜的组织结构与性能 | 第21-23页 |
1.5.2 非晶态碳固体润滑机理 | 第23-24页 |
1.6 W-S-C复合薄膜的研究现状 | 第24-25页 |
1.7 选题意义和研究内容 | 第25-28页 |
第二章 WS_2/a-C多层膜的制备与表征方法 | 第28-36页 |
2.1 WS_2/a-C多层膜的制备方法 | 第28-29页 |
2.1.1 直流磁控溅射原理 | 第28页 |
2.1.2 射频磁控溅射原理 | 第28-29页 |
2.2 靶材与基底的预处理 | 第29-30页 |
2.3 WS_2/a-C多层膜的制备工艺 | 第30-32页 |
2.3.1 WS_2/a-C多层膜的沉积参数 | 第30-31页 |
2.3.2 WS_2/a-C多层膜制备的工艺流程 | 第31-32页 |
2.4 多层膜的成分、结构及性能的表征方法 | 第32-34页 |
2.4.1 扫描电镜分析 | 第32页 |
2.4.2 X射线衍射分析 | 第32页 |
2.4.3 X射线光电子能分析 | 第32-33页 |
2.4.4 纳米硬度测试 | 第33页 |
2.4.5 薄膜的内应力测试 | 第33页 |
2.4.6 膜基结合力测试 | 第33页 |
2.4.7 摩擦磨损实验 | 第33-34页 |
2.5 本章总结 | 第34-36页 |
第三章 WS_2/a-C多层膜的组织结构 | 第36-46页 |
3.1 WS_2/a-C多层膜的表面及横截面形貌 | 第36-38页 |
3.1.1 薄膜的表面形貌 | 第36-37页 |
3.1.2 薄膜的截面形貌 | 第37-38页 |
3.2 WS_2/a-C多层膜的化学成分分析 | 第38-39页 |
3.2.1 薄膜的EDS分析 | 第38-39页 |
3.3 WS_2/a-C多层膜的相结构及价键结构分析 | 第39-45页 |
3.3.1 薄膜的物相分析(XRD) | 第39-40页 |
3.3.2 薄膜的X射线光电子能谱仪分析(XPS) | 第40-45页 |
3.4 本章总结 | 第45-46页 |
第四章 WS_2/a-C多层膜的力学性能和摩擦学特性 | 第46-56页 |
4.1 WS_2/a-C多层膜的硬度及弹性模量 | 第46页 |
4.2 薄膜的内应力及结合力 | 第46-47页 |
4.3 薄膜在大气和真空中的摩擦学特性 | 第47-53页 |
4.3.1 薄膜在大气中的摩擦学特性 | 第47-50页 |
4.3.2 薄膜在真空中的摩擦学特性 | 第50-53页 |
4.4 本章小结 | 第53-56页 |
第五章 沉积温度对WSx/a-C多层膜组织及机械性能的影响 | 第56-64页 |
5.1 不同沉积温度多层膜的组织结构对比 | 第56-58页 |
5.2 不同沉积温度多层膜的力学性能对比 | 第58-60页 |
5.3 不同沉积温度多层膜的摩擦学性能对比 | 第60-61页 |
5.3.1 大气中的摩擦因数及磨损率对比 | 第60页 |
5.3.2 真空中的摩擦系数及磨损率对比 | 第60-61页 |
5.4 本章总结 | 第61-64页 |
第六章 总结与展望 | 第64-66页 |
6.1 总结 | 第64-65页 |
6.2 展望 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-74页 |
致谢 | 第74-75页 |
读学位期间参加的科研项目及成果 | 第75页 |