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不同调制比WS2/C多层膜的结构及机械性能

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
第一章 绪论第10-28页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 纳米多层薄膜第11-14页
        1.2.1 纳米多层膜的定义第11页
        1.2.2 多层膜的硬度及致硬机理第11-13页
        1.2.3 多层膜的摩擦磨损性能第13-14页
    1.3 多层膜的制备方法第14-17页
        1.3.1 多弧离子镀第15页
        1.3.2 磁控溅射第15-16页
        1.3.3 等离子体化学气相沉积第16页
        1.3.4 离子束辅助沉积第16-17页
    1.4 WS_2薄膜概述第17-21页
        1.4.1 WS_2薄膜的基本性质第17-19页
        1.4.2 WS_2薄膜的制备方法第19-20页
        1.4.3 WS_2薄膜的固体润滑机理第20页
        1.4.4 WS_2薄膜存在的问题第20-21页
    1.5 非晶碳(a-C)膜第21-24页
        1.5.1 非晶碳(a-C)膜的组织结构与性能第21-23页
        1.5.2 非晶态碳固体润滑机理第23-24页
    1.6 W-S-C复合薄膜的研究现状第24-25页
    1.7 选题意义和研究内容第25-28页
第二章 WS_2/a-C多层膜的制备与表征方法第28-36页
    2.1 WS_2/a-C多层膜的制备方法第28-29页
        2.1.1 直流磁控溅射原理第28页
        2.1.2 射频磁控溅射原理第28-29页
    2.2 靶材与基底的预处理第29-30页
    2.3 WS_2/a-C多层膜的制备工艺第30-32页
        2.3.1 WS_2/a-C多层膜的沉积参数第30-31页
        2.3.2 WS_2/a-C多层膜制备的工艺流程第31-32页
    2.4 多层膜的成分、结构及性能的表征方法第32-34页
        2.4.1 扫描电镜分析第32页
        2.4.2 X射线衍射分析第32页
        2.4.3 X射线光电子能分析第32-33页
        2.4.4 纳米硬度测试第33页
        2.4.5 薄膜的内应力测试第33页
        2.4.6 膜基结合力测试第33页
        2.4.7 摩擦磨损实验第33-34页
    2.5 本章总结第34-36页
第三章 WS_2/a-C多层膜的组织结构第36-46页
    3.1 WS_2/a-C多层膜的表面及横截面形貌第36-38页
        3.1.1 薄膜的表面形貌第36-37页
        3.1.2 薄膜的截面形貌第37-38页
    3.2 WS_2/a-C多层膜的化学成分分析第38-39页
        3.2.1 薄膜的EDS分析第38-39页
    3.3 WS_2/a-C多层膜的相结构及价键结构分析第39-45页
        3.3.1 薄膜的物相分析(XRD)第39-40页
        3.3.2 薄膜的X射线光电子能谱仪分析(XPS)第40-45页
    3.4 本章总结第45-46页
第四章 WS_2/a-C多层膜的力学性能和摩擦学特性第46-56页
    4.1 WS_2/a-C多层膜的硬度及弹性模量第46页
    4.2 薄膜的内应力及结合力第46-47页
    4.3 薄膜在大气和真空中的摩擦学特性第47-53页
        4.3.1 薄膜在大气中的摩擦学特性第47-50页
        4.3.2 薄膜在真空中的摩擦学特性第50-53页
    4.4 本章小结第53-56页
第五章 沉积温度对WSx/a-C多层膜组织及机械性能的影响第56-64页
    5.1 不同沉积温度多层膜的组织结构对比第56-58页
    5.2 不同沉积温度多层膜的力学性能对比第58-60页
    5.3 不同沉积温度多层膜的摩擦学性能对比第60-61页
        5.3.1 大气中的摩擦因数及磨损率对比第60页
        5.3.2 真空中的摩擦系数及磨损率对比第60-61页
    5.4 本章总结第61-64页
第六章 总结与展望第64-66页
    6.1 总结第64-65页
    6.2 展望第65-66页
参考文献第66-74页
致谢第74-75页
读学位期间参加的科研项目及成果第75页

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