摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第18-33页 |
1.1 研究背景和意义 | 第18-19页 |
1.2 热浸锌层的腐蚀与铬酸盐钝化 | 第19-20页 |
1.3 无铬钝化的研究进展 | 第20-29页 |
1.3.1 钼酸盐钝化 | 第20-21页 |
1.3.2 稀土盐钝化 | 第21-24页 |
1.3.2.1 稀土转化膜的成膜机理 | 第21-22页 |
1.3.2.2 稀土转化膜的结构与性能 | 第22-24页 |
1.3.3 硅酸盐钝化 | 第24-27页 |
1.3.3.1 硅酸盐转化膜的成膜机理 | 第24-25页 |
1.3.3.2 硅酸钠溶液中的硅酸盐负离子 | 第25-26页 |
1.3.3.3 硅酸盐膜结构与硅酸盐负离子分布的关系 | 第26-27页 |
1.3.4 硅烷处理 | 第27-29页 |
1.4 无铬转化膜的的结构及改性 | 第29-32页 |
1.4.1 无铬转化膜的结构 | 第29-30页 |
1.4.2 无铬转化膜的改性思路 | 第30-32页 |
1.5 本文的主要研究内容 | 第32-33页 |
第二章 试验材料与方法 | 第33-37页 |
2.1 试验材料 | 第33页 |
2.2 仪器设备 | 第33-34页 |
2.3 热浸锌试样制备 | 第34页 |
2.4 溶液的研究方法 | 第34-35页 |
2.5 膜层的结构及化学成分的研究方法 | 第35-36页 |
2.6 膜层性能的研究方法 | 第36页 |
2.6.1 接触角试验 | 第36页 |
2.6.2 中性盐雾试验 | 第36页 |
2.6.3 电化学分析 | 第36页 |
2.7 本章小结 | 第36-37页 |
第三章 硅酸盐溶液和膜层结构及成膜机理 | 第37-53页 |
3.1 前言 | 第37页 |
3.2 硅酸盐溶液和转化膜的制备 | 第37-38页 |
3.3 硅酸钠溶液的分析 | 第38-43页 |
3.3.1 硅酸钠溶液中的粒子粒度 | 第38-39页 |
3.3.2 硅酸钠溶液的显微结构 | 第39-41页 |
3.3.3 硅酸钠溶液中硅酸盐负离子的聚合度 | 第41-43页 |
3.4 硅酸盐转化膜的结构与性能 | 第43-49页 |
3.4.1 硅酸盐膜的结构及化学成分 | 第43-45页 |
3.4.2 中性盐雾试验 | 第45-46页 |
3.4.3 塔菲尔极化曲线 | 第46-47页 |
3.4.4 电化学阻抗谱及等效电路 | 第47-49页 |
3.5 硅酸盐转化膜的成膜讨论与分析 | 第49-52页 |
3.5.1 二氧化硅粉体粒度对硅酸钠溶液的影响 | 第49页 |
3.5.2 添加硅溶胶对硅酸钠溶液的影响 | 第49-50页 |
3.5.3 溶液聚合度对硅酸盐膜结构的影响 | 第50-51页 |
3.5.4 不同聚合度硅酸负离子的最佳比例分布 | 第51-52页 |
3.6 本章小结 | 第52-53页 |
第四章 硅酸盐转化膜的疏水性改性 | 第53-74页 |
4.1 前言 | 第53页 |
4.2 疏水性硅酸盐改性膜 | 第53-66页 |
4.2.1 疏水性硅酸盐改性膜制备 | 第53-55页 |
4.2.2 硅酸钠改性溶液的分析 | 第55-56页 |
4.2.3 疏水性硅酸盐改性膜的结构与成分分析 | 第56-60页 |
4.2.4 疏水性硅酸盐改性膜的疏水性 | 第60-61页 |
4.2.5 疏水性硅酸盐改性膜的耐蚀性 | 第61-65页 |
4.2.5.1 塔菲尔极化曲线 | 第61-62页 |
4.2.5.2 电化学阻抗谱及等效电路 | 第62-65页 |
4.2.6 添加甲基硅酸钠对硅酸盐膜结构的影响 | 第65-66页 |
4.3 疏水性硅酸盐复合膜 | 第66-73页 |
4.3.1 疏水性硅酸盐复合膜的制备 | 第66页 |
4.3.2 疏水性硅酸盐复合膜的结构与成分分析 | 第66-68页 |
4.3.3 疏水性硅酸盐复合膜的疏水性 | 第68-69页 |
4.3.4 疏水性硅酸盐复合膜的耐蚀性 | 第69-72页 |
4.3.3.1 中性盐雾腐蚀试验 | 第69页 |
4.3.3.2 塔菲尔极化曲线 | 第69-70页 |
4.3.3.3 电化学阻抗谱及等效电路 | 第70-72页 |
4.3.5 甲基硅酸钠后处理对硅酸盐膜结构的影响 | 第72-73页 |
4.4 本章小结 | 第73-74页 |
第五章 镧盐转化膜的生长及其改性 | 第74-95页 |
5.1 前言 | 第74页 |
5.2 常规镧盐膜的生长过程的细节和裂纹影响 | 第74-83页 |
5.2.1 不同生长阶段的镧盐膜的微观结构与成分 | 第74-77页 |
5.2.2 不同生长阶段的镧盐膜的电化学特性 | 第77-79页 |
5.2.3 不同生长阶段的镧盐膜的等效电路分析 | 第79-82页 |
5.2.4 镧盐转化膜生长过程的模型 | 第82-83页 |
5.3 改性镧盐膜的生长及性能研究 | 第83-89页 |
5.3.1 改性镧盐膜的制备 | 第83-84页 |
5.3.2 改性镧盐膜的显微结构和化学成分 | 第84-86页 |
5.3.3 改性镧盐膜的电化学特性 | 第86-89页 |
5.4 硅酸钠预处理对镧盐膜的组织结构和耐蚀性的影响 | 第89-92页 |
5.5 自愈性探讨及其模型分析 | 第92-94页 |
5.6 本章小结 | 第94-95页 |
第六章 封闭裂纹对镧盐转化膜的影响 | 第95-109页 |
6.1 前言 | 第95页 |
6.2 硅酸钠封闭裂纹对镧盐膜的影响 | 第95-97页 |
6.3 硅烷封闭裂纹对镧盐膜的影响 | 第97-108页 |
6.3.1 硅烷对镧盐膜的封闭处理 | 第97-98页 |
6.3.2 硅烷后处理镧盐膜的结构及成分分析 | 第98-102页 |
6.3.3 硅烷后处理镧盐膜的耐蚀性研究 | 第102-107页 |
6.3.3.1 中性盐雾结果 | 第102-103页 |
6.3.3.2 塔菲尔极化曲线 | 第103-105页 |
6.3.3.3 电化学阻抗谱及等效电路分析 | 第105-107页 |
6.3.4 复合膜的协同作用和封闭裂纹的作用 | 第107-108页 |
6.4 本章小结 | 第108-109页 |
结论与展望 | 第109-111页 |
参考文献 | 第111-130页 |
攻读博士期间取得的研究成果 | 第130-132页 |
致谢 | 第132-133页 |
附件 | 第133页 |