柔性太阳能高反射材料的制备关键技术与性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11-13页 |
| 1.1.1 课题背景 | 第11-12页 |
| 1.1.2 国内外现状及研究动态 | 第12-13页 |
| 1.2 聚合物表面化改性概述 | 第13-16页 |
| 1.2.1 离子注入 | 第14-15页 |
| 1.2.2 离子束辐照 | 第15-16页 |
| 1.2.3 等离子体处理 | 第16页 |
| 1.3 薄膜制备技术概述 | 第16-20页 |
| 1.3.1 磁控溅射法 | 第16-17页 |
| 1.3.2 离子镀和离子束沉积 | 第17-18页 |
| 1.3.3 真空蒸镀法 | 第18-19页 |
| 1.3.4 化学气相沉积 | 第19页 |
| 1.3.5 脉冲激光沉积法 | 第19-20页 |
| 1.4 本文研究主要内容和意义 | 第20-23页 |
| 第二章 实验部分 | 第23-35页 |
| 2.1 实验设备与原理介绍 | 第23-27页 |
| 2.1.1 MEVVA源离子注入与沉积复合镀膜机 | 第23-26页 |
| 2.1.2 磁控溅射沉积仪 | 第26-27页 |
| 2.2 试验材料与仪器 | 第27-28页 |
| 2.3 理论模拟计算 | 第28-30页 |
| 2.3.1 离子注入理论模拟 | 第28-30页 |
| 2.3.2 光学薄膜反射率理论模拟 | 第30页 |
| 2.4 薄膜反射率的计算 | 第30-31页 |
| 2.5 分析测试和表征 | 第31-35页 |
| 2.5.1 材料反射率测试 | 第31页 |
| 2.5.2 材料表面形貌观察 | 第31-32页 |
| 2.5.3 注入层成分分析 | 第32-33页 |
| 2.5.4 纳米硬度和杨氏模量测试 | 第33页 |
| 2.5.5 薄膜附着力测试 | 第33页 |
| 2.5.6 薄膜材料的耐摩擦和耐老化测试 | 第33-35页 |
| 第三章 离子注入改性聚合物性能研究 | 第35-51页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 离子注入模拟 | 第35-41页 |
| 3.3 离子注入实验 | 第41-43页 |
| 3.3.1 原材料前处理 | 第41页 |
| 3.3.2 离子注入实验操作流程 | 第41-43页 |
| 3.4 离子注入对PC基片的影响 | 第43-49页 |
| 3.4.1 离子注入对PC表面组分影响 | 第43-45页 |
| 3.4.2 离子注入对PC基片纳米硬度的影响 | 第45-46页 |
| 3.4.3 离子注入对PC表面形貌的影响 | 第46-48页 |
| 3.4.4 离子注入提高表面润湿性能 | 第48-49页 |
| 3.5 本章小节 | 第49-51页 |
| 第四章 柔性高反射材料制备与性能研究 | 第51-73页 |
| 4.1 铝膜反射层的制备 | 第51页 |
| 4.2 FCVAD镀制铝膜最佳参数研究 | 第51-56页 |
| 4.2.1 铝膜的反射率与弧流的关系 | 第51-52页 |
| 4.2.2 铝膜的反射率与负压的关系 | 第52-54页 |
| 4.2.3 铝膜的反射率与占空比的关系 | 第54-55页 |
| 4.2.4 铝膜的反射率与沉积库伦数的关系 | 第55-56页 |
| 4.3 磁控溅射镀制SiO2保护层 | 第56-59页 |
| 4.4 柔性高反射材料综合性能测试 | 第59-63页 |
| 4.4.1 柔性反射材料老化性能测试 | 第60页 |
| 4.4.2 柔性反射材料摩擦性能测试 | 第60-62页 |
| 4.4.3 柔性反射材料结合力测试 | 第62-63页 |
| 4.5 FCVAD与磁控溅射制备技术性能比较 | 第63-70页 |
| 4.5.1 制备条件及参数 | 第63-64页 |
| 4.5.2 薄膜反射率测试结果对比 | 第64-65页 |
| 4.5.3 薄膜附着力测试对比 | 第65-66页 |
| 4.5.4 薄膜表面形貌观察 | 第66-68页 |
| 4.5.5 薄膜耐摩擦、耐老化性能测试 | 第68-70页 |
| 4.6 本章小结 | 第70-73页 |
| 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-83页 |
| 附录1 标准化相对光谱分布 | 第83-84页 |
| 附录2 标准化总日辐射相对分布 | 第84-86页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第86-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 附表 | 第88页 |
