| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-35页 |
| 1.1 磁记录技术的发展 | 第13-17页 |
| 1.2 磁存储材料的选择 | 第17-20页 |
| 1.3 FePt/CoPt磁记录材料 | 第20-23页 |
| 1.3.1 FePt/CoPt磁记录材料简介 | 第20-22页 |
| 1.3.2 L1_0-FePt纳米合金的制备 | 第22-23页 |
| 1.4 化学溶液法制备FePt纳米颗粒和纳米棒/米线 | 第23-26页 |
| 1.4.1 化学溶液法制备FePt纳米颗粒研究进展 | 第23-24页 |
| 1.4.2 化学溶液法制备FePt纳米棒/米线 | 第24-26页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容和研究方法 | 第26-29页 |
| 1.5.1 本论文的工作目的和研究内容 | 第26-27页 |
| 1.5.2 本论文的主要研究方法 | 第27-29页 |
| 参考文献 | 第29-35页 |
| 第二章 磁场下FePt纳米颗粒和纳米棒的制备、结构与磁性能 | 第35-60页 |
| 2.1 引言 | 第35-36页 |
| 2.2 磁场下FePt纳米颗粒的制备、结构与磁性能 | 第36-46页 |
| 2.2.1 磁场下FePt纳米颗粒的制备 | 第36-39页 |
| 2.2.1.1 纳米颗粒的化学溶液法合成 | 第36-38页 |
| 2.2.1.2 FePt纳米颗粒薄膜的制备 | 第38-39页 |
| 2.2.2 磁场对FePt纳米颗粒合成和成膜过程的影响 | 第39-46页 |
| 2.2.2.1 XRD表征 | 第39-42页 |
| 2.2.2.2 TEM表征 | 第42-44页 |
| 2.2.2.3 SQUID表征磁性能 | 第44-46页 |
| 2.3 L1_0_FePt纳米棒的制备和表征 | 第46-56页 |
| 2.3.1 L1_0-FePt纳米棒的制备 | 第46-48页 |
| 2.3.2 铁源的加入温度 | 第48-50页 |
| 2.3.3 反应时间 | 第50-51页 |
| 2.3.4 溶剂选择及比例调节 | 第51-54页 |
| 2.3.5 磁场下FePt纳米棒的合成 | 第54-56页 |
| 2.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 第三章 FePt-MgO/Al_2O_3复合体系的制备、结构与磁性能 | 第60-84页 |
| 3.1 引言 | 第60-61页 |
| 3.2 FePt-MgO纳米复合体系的制备、结构与磁性能 | 第61-74页 |
| 3.2.1 FePt-MgO纳米复合体系的制备工艺 | 第61-62页 |
| 3.2.2 不同pH值对FePt-MgO纳米复合体系结构与磁性能的影响 | 第62-70页 |
| 3.2.3 FePt颗粒负载量对FePt-MgO纳米复合体系结构与磁性能的影响 | 第70-74页 |
| 3.3 FePt-Al_2O_3纳米复合薄膜的制备和表征 | 第74-80页 |
| 3.3.1 FePt-Al_2O_3纳米复合薄膜的制备 | 第74-75页 |
| 3.3.2 FePt-Al_2O_3纳米复合薄膜的表征 | 第75-80页 |
| 3.4 本章小结 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-84页 |
| 第四章 氧化钻薄膜和CoPt薄膜的ALD制备和表征 | 第84-101页 |
| 4.1 引言 | 第84页 |
| 4.2 原子层沉积(ALD)技术 | 第84-86页 |
| 4.2.1 ALD的原理及应用 | 第84-86页 |
| 4.2.2 PEALD简述 | 第86页 |
| 4.3 氧化钴薄膜的PEALD沉积 | 第86-91页 |
| 4.3.1 氧化钴薄膜的制备和表征 | 第86-90页 |
| 4.3.2 不同沉积温度的影响 | 第90-91页 |
| 4.4 CoPt薄膜的ALD制备 | 第91-96页 |
| 4.4.1 氧化钻-Pt复合薄膜的ALD制备和表征 | 第91-93页 |
| 4.4.2 复合薄膜的后退火和表征 | 第93-96页 |
| 4.5 本章小结 | 第96-98页 |
| 参考文献 | 第98-101页 |
| 第五章 结论和展望 | 第101-104页 |
| 5.1 结论 | 第101-102页 |
| 5.2 未来工作的展望 | 第102-104页 |
| 硕士期间发表的文章 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |
