| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第17-29页 |
| 1.1 不锈钢 | 第17页 |
| 1.2 不锈钢的耐蚀性 | 第17-18页 |
| 1.3 不锈钢在硫酸环境中的腐蚀 | 第18-19页 |
| 1.4 不锈钢的保护 | 第19-24页 |
| 1.4.1 电化学保护技术 | 第19-21页 |
| 1.4.2 表面添加合金元素 | 第21-22页 |
| 1.4.3 表面有机涂层涂覆 | 第22页 |
| 1.4.4 不锈钢表面改性 | 第22-23页 |
| 1.4.5 不锈钢表面电镀 | 第23-24页 |
| 1.5 多层镀层制备 | 第24-26页 |
| 1.6 钯系合金膜层制备 | 第26-27页 |
| 1.7 论文的研究内容及研究意义 | 第27-29页 |
| 第二章 实验材料、制备工艺及检测分析方法 | 第29-37页 |
| 2.1 实验所需材料 | 第29-30页 |
| 2.1.1 实验药品 | 第29页 |
| 2.1.2 电镀基体材料 | 第29-30页 |
| 2.2 实验样品制备方法步骤 | 第30-32页 |
| 2.2.1 材料前处理工艺 | 第30-31页 |
| 2.2.2 不锈钢表面电沉积Pd-Ni膜层 | 第31-32页 |
| 2.3 膜层性能测试 | 第32-37页 |
| 2.3.1 膜层在腐蚀溶液浸泡前后结合强度测试 | 第32页 |
| 2.3.2 接触角测试 | 第32页 |
| 2.3.3 显微硬度测试 | 第32页 |
| 2.3.4 膜层在腐蚀溶液中浸泡前后孔隙率测试 | 第32-33页 |
| 2.3.5 膜层内应力测试 | 第33页 |
| 2.3.6 电镀膜层表面形貌与成分分析 | 第33-34页 |
| 2.3.7 电镀膜层耐蚀性分析 | 第34-35页 |
| 2.3.8 电偶实验 | 第35-36页 |
| 2.3.9 钝化膜半导体性能测试 | 第36-37页 |
| 第三章 电流密度对Pd-Ni镀层性能影响 | 第37-57页 |
| 3.1 电流密度对表面形貌影响 | 第37-39页 |
| 3.1.1 Pd-Ni镀层表面金相形貌 | 第37-38页 |
| 3.1.2 Pd-Ni镀层表面SEM形貌观察 | 第38-39页 |
| 3.2 电流密度对元素含量影响 | 第39-42页 |
| 3.3 电流密度对Pd-Ni膜层晶粒大小及择优取向影响 | 第42-43页 |
| 3.4 电流密度对镀层厚度影响 | 第43-44页 |
| 3.5 电流密度对镀层内应力影响 | 第44-45页 |
| 3.6 电流密度对镀层硬度影响 | 第45-46页 |
| 3.7 电流密度对结合强度影响 | 第46-47页 |
| 3.8 电流密度对接触角大小影响 | 第47-48页 |
| 3.9 电流密度对孔隙率影响 | 第48-49页 |
| 3.10 电流密度对耐蚀性影响 | 第49-56页 |
| 3.10.1 不同Pd-Ni膜层在85℃20%H_2SO_4环境中耐蚀性 | 第49-51页 |
| 3.10.2 不同Pd-Ni膜层在85℃20%H_2SO_4+200 ppm Cl~-环境中耐蚀性 | 第51-53页 |
| 3.10.3 不同Pd-Ni膜层在85℃20%H_2SO_4+200 ppm Cl~+520 rpm环境中耐蚀性 | 第53-56页 |
| 3.11 本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 多层Pd-Ni膜层的设计与制备 | 第57-73页 |
| 4.1 电镀时间的选择 | 第57-58页 |
| 4.1.1 电镀时间对膜层厚度影响 | 第57页 |
| 4.1.2 电镀时间对膜层表面形貌及孔隙率影响 | 第57-58页 |
| 4.2 多层Pd-Ni合金膜层层数的影响 | 第58-60页 |
| 4.2.1 膜层层数对膜层孔隙率影响 | 第58-59页 |
| 4.2.2 膜层数对耐蚀性影响 | 第59-60页 |
| 4.3 多层Pd-Ni膜层的设计 | 第60-61页 |
| 4.4 多层Pd-Ni膜层内应力 | 第61页 |
| 4.5 多层Pd-Ni膜层硬度 | 第61-62页 |
| 4.6 多层Pd-Ni膜层孔隙率 | 第62-63页 |
| 4.7 多层Pd-Ni膜层结合强度 | 第63-64页 |
| 4.8 多层Pd-Ni膜层形貌及元素含量变化 | 第64-66页 |
| 4.9 多层Pd-Ni膜层耐蚀性 | 第66-70页 |
| 4.9.1 交流阻抗测试 | 第66-67页 |
| 4.9.2 动电位极化曲线 | 第67-68页 |
| 4.9.3 腐蚀挂片试验 | 第68-70页 |
| 4.10 本章小结 | 第70-73页 |
| 第五章 Pd-Ni及Pd膜促进不锈钢表面钝化研究 | 第73-93页 |
| 5.1 不锈钢表面电镀不同面积比Pd-Ni膜层电位监测 | 第73-74页 |
| 5.2 不锈钢表面电镀钯膜与钯-镍膜层比较 | 第74-78页 |
| 5.2.1 不锈钢电镀Pd、Pd-Ni表面形貌比较 | 第74-75页 |
| 5.2.2 不锈钢电镀Pd、Pd-Ni膜层结构比较 | 第75页 |
| 5.2.3 不锈钢电镀Pd、Pd-Ni膜层耐蚀性比较 | 第75-78页 |
| 5.3 电位监测 | 第78-80页 |
| 5.4 不同状态钝化膜表面元素分析 | 第80-86页 |
| 5.4.1 不同面积比生成钝化膜表面元素分析 | 第80-83页 |
| 5.4.2 相同面积比不同电位时钝化膜表面元素分析 | 第83-86页 |
| 5.5 不同状态钝化膜EIS分析 | 第86-89页 |
| 5.5.1 不同面积比生成钝化膜EIS分析 | 第86-88页 |
| 5.5.2 相同面积比不同电位时钝化膜EIS分析 | 第88-89页 |
| 5.6 不同状态钝化膜M-S曲线 | 第89-91页 |
| 5.6.1 不同面积比生成钝化膜EIS分析 | 第89-90页 |
| 5.6.2 相同面积比不同电位时钝化膜M-S分析 | 第90-91页 |
| 5.7 本章小结 | 第91-93页 |
| 第六章 总结论 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-103页 |
| 致谢 | 第103-105页 |
| 研究成果及发表的论文 | 第105-107页 |
| 作者和导师简介 | 第107-108页 |
| 附件 | 第108-109页 |
