| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 半导体光催化技术概述 | 第13-21页 |
| 1.1.1 半导体光催化技术的基本理论 | 第14-16页 |
| 1.1.2 半导体光催化氧化还原机理 | 第16-17页 |
| 1.1.3 提高半导体光催化剂活性的主要途径 | 第17-21页 |
| 1.2 ZnO光催化剂研究现状 | 第21-24页 |
| 1.2.1 ZnO的基本性质 | 第21-22页 |
| 1.2.2 ZnO在光催化中的应用 | 第22-23页 |
| 1.2.3 ZnO在光催化应用中存在的问题 | 第23-24页 |
| 1.3 论文立题意义,研究内容和创新点 | 第24-26页 |
| 1.3.1 论文立题意义 | 第24页 |
| 1.3.2 主要研究内容 | 第24-25页 |
| 1.3.3 创新点 | 第25-26页 |
| 第二章 实验流程,实验试剂,设备及检测 | 第26-32页 |
| 2.1 实验流程 | 第26-28页 |
| 2.2 实验试剂 | 第28-29页 |
| 2.3 实验设备 | 第29-30页 |
| 2.4 检测设备 | 第30-32页 |
| 第三章 不同形貌ZnO的光催化性能研究 | 第32-46页 |
| 3.1 序言 | 第32页 |
| 3.2 实验部分 | 第32-34页 |
| 3.2.1 片层状ZnO制备 | 第32页 |
| 3.2.2 花瓣状ZnO制备 | 第32-33页 |
| 3.2.3 绒球状ZnO制备 | 第33页 |
| 3.2.4 针状ZnO制备 | 第33页 |
| 3.2.5 球状ZnO制备 | 第33页 |
| 3.2.6 光催化实验 | 第33-34页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第34-43页 |
| 3.3.1 表征结果 | 第34-36页 |
| 3.3.2 光催化活性的研究 | 第36-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-46页 |
| 第四章 磁性复合光催化剂Fe_3O_4@ZnO-GO的制备及光催化性能的研究 | 第46-62页 |
| 4.1 序言 | 第46页 |
| 4.2 实验部分 | 第46-49页 |
| 4.2.1 GO的制备 | 第46-47页 |
| 4.2.2 Fe_3O_4的制备 | 第47页 |
| 4.2.3 Fe_3O_4@ZnO的制备 | 第47-48页 |
| 4.2.4 Fe_3O_4@ZnO-GO的制备 | 第48页 |
| 4.2.5 光催化实验 | 第48-49页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第49-60页 |
| 4.3.1 表征结果 | 第49-56页 |
| 4.3.2 复合光催化剂的光催化性能研究 | 第56-57页 |
| 4.3.3 不同GO浓度对光催化性能的影响 | 第57-58页 |
| 4.3.4 Fe_3O_4@ZnO-GO光催化剂的光催化降解机理 | 第58-59页 |
| 4.3.5 Fe_3O_4@ZnO-GO光催化剂的重复利用性分析 | 第59-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 5.1 结论 | 第62-63页 |
| 5.2 展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 附录 | 第72页 |
