| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-15页 |
| 1.2.1 透明导电薄膜的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.2.2 氧化物透明导电薄膜的研究现状 | 第12页 |
| 1.2.3 ZnO-TCO薄膜的研究现状 | 第12-15页 |
| 1.3 一维氧化锌纳米材料的制备 | 第15-17页 |
| 1.3.1 ZnO-TCO薄膜制备技术 | 第15-16页 |
| 1.3.2 电沉积法制备技术介绍 | 第16-17页 |
| 1.4 染料敏化太阳能电池的介绍 | 第17-19页 |
| 1.4.1 染料敏化太阳能电池基本概念 | 第18页 |
| 1.4.2 DSSC电池的光电转换机理 | 第18-19页 |
| 1.5 研究内容及创新点 | 第19-22页 |
| 第二章 ZnO透明导电纳米线阵列的电沉积法生长机理 | 第22-34页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-26页 |
| 2.2.1 实验材料与设备 | 第22-24页 |
| 2.2.2 实验方案与步骤 | 第24-26页 |
| 2.3 结果与分析 | 第26-31页 |
| 2.3.1 循环伏安曲线 | 第26-28页 |
| 2.3.2 溶液的PH值变化 | 第28-30页 |
| 2.3.3 ZnO与掺杂ZnO薄膜成核与长大过程 | 第30-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-34页 |
| 第三章 Zn(NO_3)_2-Al(NO_3)_3 和Zn(NO_3)_2-In(NO_3)_3 水溶液体系电沉积ZnO生长行为的比较 | 第34-44页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 ZnO薄膜的制备 | 第34-35页 |
| 3.3 结果与分析 | 第35-43页 |
| 3.3.1 ZnO薄膜的XRD分析 | 第35-37页 |
| 3.3.2 ZnO薄膜的SEM表征 | 第37-41页 |
| 3.3.3 ZnO薄膜的成分分析 | 第41-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 Al掺杂ZnO纳米线阵列的结构与形貌调控 | 第44-52页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 ZnO薄膜的制备 | 第44-45页 |
| 4.2.1 不同浓度Al掺杂ZnO薄膜 | 第44页 |
| 4.2.2 不同沉积时间Al掺杂ZnO薄膜 | 第44-45页 |
| 4.2.3 不同沉积电位Al掺杂ZnO薄膜 | 第45页 |
| 4.3 结果与分析 | 第45-50页 |
| 4.3.1 不同Al掺杂浓度下制备的ZnO薄膜表征 | 第45-48页 |
| 4.3.2 不同反应时间下制备的ZnO薄膜表征 | 第48-49页 |
| 4.3.3 不同反应电位下制备的ZnO薄膜表征 | 第49-50页 |
| 4.4 本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 TiO_2膜表面修饰Al掺杂ZnO纳米线阵列 | 第52-60页 |
| 5.1 引言 | 第52页 |
| 5.2 实验材料与方案 | 第52-53页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第53-58页 |
| 5.3.1 晶相结构 | 第53-55页 |
| 5.3.2 表面微观形貌 | 第55-57页 |
| 5.3.3 电学性能 | 第57-58页 |
| 5.4 本章小节 | 第58-60页 |
| 总结与展望 | 第60-62页 |
| 全文总结 | 第60-61页 |
| 对未来工作的展望与建议 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 附录 攻读学位期间取得的学术成果及参与课题 | 第68页 |
