| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-27页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·电致变色概述 | 第10-16页 |
| ·电致变色的定义 | 第10页 |
| ·电致变色材料分类 | 第10-16页 |
| ·电致变色的研究历史 | 第16页 |
| ·电致变色薄膜制备技术简介 | 第16-19页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第17页 |
| ·化学气相沉积法 | 第17-18页 |
| ·电子束蒸发法 | 第18页 |
| ·电化学沉积法 | 第18页 |
| ·磁控溅射法 | 第18-19页 |
| ·NiO薄膜的结构与性能 | 第19-26页 |
| ·NiO的晶体结构 | 第19-20页 |
| ·Ni(OH)_2和NiOOH结构 | 第20-21页 |
| ·NiO薄膜的电致变色机理 | 第21-25页 |
| ·NiO薄膜电致变色研究现状 | 第25-26页 |
| ·课题提出 | 第26-27页 |
| 第二章 实验部分 | 第27-36页 |
| ·实验装置和实验步骤 | 第27-30页 |
| ·实验装置 | 第27页 |
| ·实验步骤 | 第27-30页 |
| ·基片预处理 | 第27-28页 |
| ·溶胶凝胶的制备 | 第28页 |
| ·旋涂法制备薄膜 | 第28-29页 |
| ·样品热处理 | 第29-30页 |
| ·其他实验设备 | 第30页 |
| ·样品的测试和分析手段 | 第30-36页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第30-31页 |
| ·紫外-可见透射光谱 | 第31页 |
| ·场发射扫描电镜(SEM) | 第31-32页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第32页 |
| ·电化学性能测试 | 第32-36页 |
| 第三章 NiO薄膜的制备及其电致变色性能研究 | 第36-46页 |
| ·热处理温度对NiO薄膜结构和表面形貌的影响 | 第36-42页 |
| ·凝胶的差热分析(DSC-TG) | 第36-38页 |
| ·NiO薄膜的X衍射分析(XRD) | 第38-39页 |
| ·薄膜扫描电镜分析(SEM) | 第39-40页 |
| ·NiO薄膜的禁带宽度的计算 | 第40-42页 |
| ·NiO薄膜的电化学特性 | 第42-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第四章 掺杂NiO薄膜的电致变色性能研究 | 第46-68页 |
| ·掺杂的优势 | 第46页 |
| ·Al掺杂NiO薄膜的制备及电致变色性能研究 | 第46-58页 |
| ·NiO_x:Al薄膜的电化学特性 | 第47-49页 |
| ·NiO_x:Al薄膜的响应时间测试 | 第49-51页 |
| ·NiO_x:Al薄膜的光学性能的检测 | 第51-56页 |
| ·NiO_x:Al薄膜的X衍射分析 | 第56-57页 |
| ·NiO_x:Al薄膜的成分分析 | 第57-58页 |
| ·Li掺杂NiO薄膜的制备及电致变色性能研究 | 第58-62页 |
| ·NiO_x:Li薄膜的电化学特性 | 第58-59页 |
| ·NiO_x:Li薄膜的响应时间测试 | 第59-60页 |
| ·NiO_x:Li薄膜的光学性能的检测 | 第60-62页 |
| ·Li、Ti共掺杂NiO薄膜的制备及电致变色性能研究 | 第62-67页 |
| ·Li、Ti共掺杂NiO薄膜的电化学特性 | 第63-64页 |
| ·Li、Ti共掺杂NiO薄膜的响应时间测试 | 第64-65页 |
| ·Li、Ti共掺杂NiO薄膜的光学性能的检测 | 第65-66页 |
| ·Li、Ti共掺杂NiO薄膜的XPS分析 | 第66-67页 |
| ·小结 | 第67-68页 |
| 第五章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 个人简历 | 第77-78页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第78页 |