中国锦屏地下实验室极低本底装置屏蔽和氡及子体影响研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 引言 | 第8-14页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-10页 |
| ·中国锦屏地下实验室（CJPL） | 第10-13页 |
| ·实验背景介绍 | 第10页 |
| ·中国锦屏地下实验室（CJPL）介绍 | 第10-12页 |
| ·CDEX介绍 | 第12-13页 |
| ·低本底测量装置 | 第13-14页 |
| 2 实验设备及原理介绍 | 第14-26页 |
| ·高纯锗探测器 | 第14-18页 |
| ·高纯锗探测器的简单介绍 | 第14-15页 |
| ·高纯锗探测器探测效率的分类 | 第15-16页 |
| ·影响探测器效率的几个因素 | 第16页 |
| ·γ射线与物质的相互作用 | 第16-18页 |
| ·genie2000软件介绍 | 第18-20页 |
| ·Genie2000功能介绍 | 第18页 |
| ·能量刻度和效率刻度 | 第18-20页 |
| ·AlphaGuard测氡仪 | 第20-23页 |
| ·信号处理过程 | 第21-22页 |
| ·AlphaGuard测氡仪测氡仪原理 | 第22-23页 |
| ·γ能谱定量分析 | 第23-26页 |
| 3 极低本底装置的MCNP软件模拟 | 第26-44页 |
| ·Monte Carlo方法概述 | 第26-27页 |
| ·蒙特卡罗方法的特点 | 第26页 |
| ·蒙特卡罗方法的应用范围 | 第26-27页 |
| ·MCNP软件的简单介绍 | 第27-31页 |
| ·极低本底探测装置及源项 | 第31-38页 |
| ·极低本底探测装置模型 | 第31-33页 |
| ·源项 | 第33-38页 |
| ·极低本底探测装置铅铜屏蔽体本底谱MCNP5模拟 | 第38-41页 |
| ·铜中体积源抽样 | 第38-39页 |
| ·铅中体积源抽样 | 第39-40页 |
| ·计数 | 第40-41页 |
| ·MCNP程序模拟结果 | 第41-44页 |
| ·本底谱 | 第41-42页 |
| ·模拟结果 | 第42-44页 |
| 4 锦屏地下实验室低本底装置实验结果 | 第44-52页 |
| ·锦屏地下实验室中氡的来源 | 第44-45页 |
| ·实验数据及处理 | 第45-49页 |
| ·AlphaGuard电离室探测器测氡数据 | 第45-46页 |
| ·HPGe探测器测量结果 | 第46-49页 |
| ·数据处理 | 第49-52页 |
| 5 结论及建议 | 第52-54页 |
| ·结论 | 第52页 |
| ·建议 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-60页 |
| 附录 | 第60-67页 |
| 附录A 极低本底装置铜中铀系MCNP模拟程序 | 第60-67页 |
