| 中文摘要 | 第1-7页 |
| 英文摘要 | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-30页 |
| ·石墨烯简介 | 第12-22页 |
| ·石墨烯研究背景 | 第12-13页 |
| ·石墨烯的结构和性质 | 第13-17页 |
| ·石墨烯的制备 | 第17-22页 |
| ·六方氮化硼（h-BN）简介 | 第22-29页 |
| ·六方氮化硼（h-BN）研究背景 | 第22-23页 |
| ·六方氮化硼（h-BN）的结构和性质 | 第23-27页 |
| ·氮化硼的制备 | 第27-29页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第29-30页 |
| 2 h-BN、石墨烯及复合材料的制备及其表征 | 第30-42页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·实验部分 | 第31-34页 |
| ·实验设备 | 第31页 |
| ·磁控溅射法制备六方氮化硼薄膜 | 第31-33页 |
| ·气相沉积（CVD）法制备石墨烯薄膜 | 第33-34页 |
| ·仪器与表征方法 | 第34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-41页 |
| ·原子力显微镜（AFM）表征 | 第34-37页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM）表征 | 第37-38页 |
| ·红外光谱（FTIR）表征 | 第38-40页 |
| ·拉曼光谱（Raman）表征 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 3 h-BN、石墨烯及其复合材料在不同衬底上的制备及散热测试研究 | 第42-52页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·实验部分 | 第43-45页 |
| ·实验设备 | 第43页 |
| ·磁控溅射法在氮化铝（AlN）衬底上制备六方氮化硼薄膜 | 第43页 |
| ·磁控溅射法在三氧化二铝（Al2O3）衬底上制备六方氮化硼薄膜 | 第43-44页 |
| ·磁控溅射法在氧化锆（ZrO2）衬底上制备六方氮化硼薄膜 | 第44页 |
| ·气相沉积（CVD）制备石墨烯以及制备六方氮化硼和石墨烯复合薄膜 | 第44页 |
| ·仪器与表征方法 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-51页 |
| ·原子力显微镜（AFM）表征 | 第45-47页 |
| ·扫描电镜（SEM）表征 | 第47页 |
| ·红外光谱（FTIR）表征 | 第47-48页 |
| ·拉曼光谱（Raman）表征 | 第48-49页 |
| ·导热性能研究 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 4 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-58页 |
| 附录：作者攻读硕士学位期间发表论文及科研情况 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
