脉冲激光沉积法制备类金刚石薄膜及其表征
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·类金刚石薄膜概述 | 第10-12页 |
| ·类金刚石薄膜的基本理论 | 第10-11页 |
| ·类金刚石薄膜的发展 | 第11页 |
| ·类金刚石薄膜的性能及应用 | 第11-12页 |
| ·类金刚石薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| ·溶胶一凝胶法 | 第12-13页 |
| ·化学气相淀积法 | 第13页 |
| ·磁控溅射法 | 第13-14页 |
| ·分子束外延法 | 第14页 |
| ·本文所使用的脉冲激光沉积法 | 第14-20页 |
| ·脉冲激光沉积技术概述 | 第14-17页 |
| ·实验设备 | 第17-18页 |
| ·脉冲激光沉积技术的主要工艺参数 | 第18页 |
| ·脉冲激光沉积的优缺点 | 第18-19页 |
| ·PLD技术的最新发展 | 第19-20页 |
| ·研究意义及内容 | 第20-21页 |
| 第2章 薄膜的检测方法 | 第21-26页 |
| ·椭圆偏振光厚测厚仪 | 第21页 |
| ·Raman检测 | 第21-22页 |
| ·X射线光电子能谱 | 第22页 |
| ·原子力显微镜 | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第23-24页 |
| ·X射线衍射分析 | 第24-26页 |
| 第3章 类金刚石薄膜的制备 | 第26-42页 |
| ·薄膜制备前的准备工作 | 第26-30页 |
| ·制备靶材 | 第26-27页 |
| ·激光的调试 | 第27-30页 |
| ·类金刚石薄膜的制备 | 第30-31页 |
| ·基片与靶材的安放 | 第30页 |
| ·系统抽真空 | 第30页 |
| ·制备类金刚石薄膜 | 第30-31页 |
| ·激光输出电压对薄膜的影响 | 第31-35页 |
| ·实验的内容与方法 | 第31页 |
| ·实验结果与分析 | 第31-35页 |
| ·实验结论 | 第35页 |
| ·靶材与基底之间的距离对薄膜的影响 | 第35-37页 |
| ·实验的内容与方法 | 第35页 |
| ·实验结果与分析 | 第35-36页 |
| ·实验结论 | 第36-37页 |
| ·沉积时间对薄膜的影响 | 第37-39页 |
| ·实验的内容与方法 | 第37页 |
| ·实验结果与分析 | 第37-38页 |
| ·实验结论 | 第38-39页 |
| ·衬底温度对薄膜的影响 | 第39-42页 |
| ·实验的内容与方法 | 第39页 |
| ·实验结果与分析 | 第39-41页 |
| ·实验结论 | 第41-42页 |
| 第4章 Ag的掺杂量对类金刚石薄膜的影响 | 第42-47页 |
| ·掺杂Ag对类金刚石薄膜的影响 | 第42-44页 |
| ·实验的内容与方法 | 第42页 |
| ·实验结果与分析 | 第42-44页 |
| ·实验结论 | 第44页 |
| ·Ag的掺杂量对类金刚石薄膜的影响 | 第44-47页 |
| ·实验的内容与方法 | 第44-45页 |
| ·实验结果与分析 | 第45-46页 |
| ·实验结论 | 第46-47页 |
| 第5章 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 在学研究成果 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52页 |
