| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-22页 |
| ·衍射极限 | 第8-9页 |
| ·表面等离子体 | 第9-13页 |
| ·金属平板超透镜 | 第13-16页 |
| ·激光干涉 | 第16-21页 |
| ·本文研究的意义及内容安排 | 第21-22页 |
| 2 膜层制备研究 | 第22-31页 |
| ·膜层制备方法 | 第22-23页 |
| ·铬(Cr)膜制备 | 第23-27页 |
| ·银(Ag)膜制备 | 第27-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 3 分离式表面等离子体器件的制作 | 第31-41页 |
| ·器件结构及工艺流程 | 第31-33页 |
| ·掩模制作 | 第33-37页 |
| ·PMMA 填平光栅掩模 | 第37-39页 |
| ·表面等离子体(SP)光刻 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 本文工作总结及展望 | 第41-43页 |
| ·本文创新点与工作总结 | 第41页 |
| ·展望 | 第41-43页 |
| 参考文献 | 第43-48页 |
| 致谢 | 第48-50页 |
| 在校期间的科研成果 | 第50页 |