| 中文摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-29页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·化学发光分析方法 | 第8-14页 |
| ·化学发光发展历程 | 第8-9页 |
| ·化学发光原理 | 第9-12页 |
| ·化学发光反应体系 | 第12-14页 |
| ·分子印迹技术 | 第14-23页 |
| ·分子印迹技术发展史 | 第14-15页 |
| ·分子印迹技术基本原理 | 第15-17页 |
| ·分子印迹聚合物常用的制备方法 | 第17-18页 |
| ·分子印迹聚合物的表征 | 第18-20页 |
| ·分子印迹技术的应用 | 第20-22页 |
| ·化学发光分析法—分子印迹技术 | 第22-23页 |
| ·化学发光反应与流动注射技术的联用 | 第23-27页 |
| ·流动注射技术 | 第24-25页 |
| ·流动注射—化学发光法的应用 | 第25-27页 |
| ·本论文研究目的及内容 | 第27-29页 |
| 第二章 分子印迹—化学发光分析方法测定还原型谷胱甘肽 | 第29-40页 |
| ·引言 | 第29-30页 |
| ·实验部分 | 第30-32页 |
| ·仪器与试剂 | 第30-31页 |
| ·G-SH 分子印迹聚合物的制备 | 第31页 |
| ·G-SH 分子印迹柱的制备 | 第31页 |
| ·分析步骤 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-39页 |
| ·高锰酸钾-甲醛-还原型谷胱甘肽体系的化学发光图谱 | 第32页 |
| ·分子印迹柱的尺寸及稳定性 | 第32-33页 |
| ·分析系统参数的选择 | 第33页 |
| ·保护剂的选择 | 第33页 |
| ·化学发光反应条件的优化 | 第33-37页 |
| ·标准曲线、精密度和检出限 | 第37页 |
| ·干扰试验 | 第37-39页 |
| ·结论 | 第39-40页 |
| 第三章 分子印迹流动注射化学发光法测定原儿茶酸 | 第40-49页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验部分 | 第40-42页 |
| ·仪器与试剂 | 第40-41页 |
| ·DHBA 分子印迹聚合物的制备 | 第41-42页 |
| ·DHBA 分子印迹整体柱的制备 | 第42页 |
| ·分析步骤 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-48页 |
| ·KMnO4-HCHO-DHBA 体系的化学发光图 | 第42-43页 |
| ·分子印迹柱的尺寸及稳定性 | 第43页 |
| ·保护剂的选择 | 第43-44页 |
| ·分析条件的优化 | 第44-46页 |
| ·校准曲线、精密度和检出限 | 第46-47页 |
| ·干扰实验 | 第47页 |
| ·样品分析 | 第47-48页 |
| ·结论 | 第48-49页 |
| 第四章 流动注射化学发光法测定 8-羟基喹啉-5-磺酸 | 第49-55页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·实验部分 | 第49-50页 |
| ·仪器和试剂 | 第49-50页 |
| ·实验内容 | 第50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-53页 |
| ·高锰酸钾-甲醛-8-羟基喹啉-5-磺酸体系的化学发光图谱 | 第50-51页 |
| ·反应条件的选择 | 第51-53页 |
| ·标准曲线、精密度和检出限 | 第53页 |
| ·选择性试验 | 第53页 |
| ·样品分析 | 第53-54页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 个人简历 | 第67-68页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文目录 | 第68页 |
