| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·稀磁半导体的实验研究 | 第9-14页 |
| ·稀磁半导体的理论研究 | 第14-16页 |
| ·CuCrO_2基稀磁半导体的实验研究 | 第16-18页 |
| ·本论文的研究意义和主要内容 | 第18-20页 |
| 第二章 样品的制备与表征方法 | 第20-27页 |
| ·薄膜制备方法 | 第20-23页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第20-22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22-23页 |
| ·薄膜表征方法 | 第23-26页 |
| ·晶体结构测试—X射线衍射仪(XRD) | 第24页 |
| ·表面形貌测试—场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第24页 |
| ·价态分析—X射线光电子能谱仪(XPS) | 第24-25页 |
| ·电学性质测试—霍尔测试系统(HMS) | 第25页 |
| ·光学性质测试—NKD-8000分光光度计 | 第25页 |
| ·磁学性质测试—综合物性测量系统(PPMS)和振动样品磁强计(VSM) | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 Cu(Cr_(1-x)Mn_x)O_2薄膜的制备与结构性能研究 | 第27-44页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·薄膜的脉冲激光沉积(PLD)法制备 | 第27-32页 |
| ·固态反应法制备靶材 | 第27-28页 |
| ·PLD法制备薄膜的工艺条件 | 第28-32页 |
| ·薄膜的微结构表征 | 第32-33页 |
| ·薄膜的价态分析 | 第33-35页 |
| ·薄膜的电学性质 | 第35-38页 |
| ·薄膜的光学性质 | 第38-40页 |
| ·薄膜的磁学性质 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 Cu(Cr_(0.95-x)Fe_xMg_(0.05))O_2薄膜的制备与结构性能研究 | 第44-54页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·薄膜的溶胶-凝胶法(Sol-Gel)法制备 | 第44页 |
| ·薄膜的微结构表征 | 第44-46页 |
| ·薄膜的价态分析 | 第46-47页 |
| ·薄膜的电学性质 | 第47-49页 |
| ·薄膜的光学性质 | 第49-52页 |
| ·薄膜的磁学性质 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 总结与展望 | 第54-57页 |
| 1、总结 | 第54-56页 |
| 2、展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的研究论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 附件 | 第65页 |
