首页--工业技术论文--一般工业技术论文--工程材料学论文--特种结构材料论文

CuInSexS2-x和Cu2-xInxSn1-xSe3-x合金半导体纳米材料制备及表征

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-6页
目录第6-9页
第一章 引言第9-18页
   ·纳米概述第9页
   ·纳米粒子制备方法第9-11页
     ·水热/溶剂热法第10页
     ·溶胶-凝胶法(胶体化学法)第10页
     ·模板合成法第10页
     ·燃烧法第10-11页
     ·沉淀法第11页
   ·半导体器件发展第11-12页
   ·CuInSe_2研究进展第12-13页
   ·CuInS_2研究进展第13-14页
   ·Ⅰ-Ⅲ-Ⅵ2半导体薄膜的制备方法第14-17页
     ·真空共蒸发法第14-15页
     ·磁控溅射法第15页
     ·电化学沉积法第15-16页
     ·稀有气体保护退火第16页
     ·化学浴法第16-17页
   ·本论文的目的和意义第17-18页
第二章 实验部分第18-23页
   ·实验药品第18-19页
   ·实验器材第19-20页
   ·实验装置图第20页
   ·表征方法第20-22页
     ·紫外-可见-近红外(UV-Vis-NIR)吸收光谱第20页
     ·能谱仪(EDX)第20页
     ·X-射线光电子能谱分析(XPS)第20-21页
     ·透射电子显微镜(TEM)第21页
     ·X射线粉末衍射(XRD)第21页
     ·红外光谱第21页
     ·台阶仪第21页
     ·四探针测试仪第21-22页
   ·工艺流程第22-23页
第三章 CuInSe_xS_(2-x)的合成与表征第23-32页
   ·实验内容第23页
   ·结果与表征第23-31页
     ·XRD结果分析第23-26页
     ·UV-Vis-NIR结果分析第26-27页
     ·能谱结果分析第27-29页
     ·TEM结果分析第29-31页
   ·本章小结第31-32页
第四章 CuInSe_xS_(2-x)配体交换及薄膜高温处理第32-39页
   ·实验方法第32页
   ·结果与表征第32-38页
     ·XRD结果分析第32-33页
     ·EDX结果分析第33-35页
     ·NIR结果分析第35-36页
     ·膜厚第36-37页
     ·电阻第37-38页
   ·本章小结第38-39页
第五章 Cu_(2-x)In_xSn_(1-x)Se_(3-x)的合成与表征第39-46页
   ·实验方法第39页
   ·结果与表征第39-45页
     ·XRD结果分析第39-41页
     ·TEM结果分析第41-42页
     ·EDX结果分析第42-44页
     ·XPS结果分析第44-45页
   ·本章小结第45-46页
第六章 结论与展望第46-47页
参考文献第47-51页
致谢第51页

论文共51页,点击 下载论文
上一篇:新型钴基氧化物热电材料的制备及其性能研究
下一篇:光催化分解水制氢用低维TiO2纳米材料的制备