基于AAO模板制备一维纳米线阵列及其结构表征与性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-11页 |
| 1 绪论 | 第11-17页 |
| ·纳米材料 | 第11页 |
| ·纳米材料的特性 | 第11页 |
| ·模板法发展的历史 | 第11页 |
| ·基于氧化铝模板制备一维纳米线的方法 | 第11-14页 |
| ·电化学沉积法 | 第12-13页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第13-14页 |
| ·氧化还原法 | 第14页 |
| ·一维磁性纳米线阵列的研究现状 | 第14-15页 |
| ·不同结构磁性纳米线的制备及物性研究 | 第14-15页 |
| ·一维磁性纳米线的研究及应用前景 | 第15页 |
| ·磁性纳米器件的研究 | 第15页 |
| ·本文的研究背景及其内容 | 第15-17页 |
| ·论文的选题背景 | 第15-16页 |
| ·论文的主要工作内容 | 第16-17页 |
| 2 多孔阳极氧化铝模板的制备及表征 | 第17-31页 |
| ·引言 | 第17页 |
| ·实验部分 | 第17-23页 |
| ·实验药品和器材 | 第17-19页 |
| ·氧化铝模板的制备 | 第19-23页 |
| ·多孔氧化铝模板制备流程 | 第19页 |
| ·高纯铝片的预处理 | 第19-20页 |
| ·阳极氧化过程 | 第20-22页 |
| ·氧化铝膜的后处理 | 第22-23页 |
| ·多孔氧化铝模板结构和形貌表征 | 第23-24页 |
| ·影响模板有序性及孔径尺寸的因素 | 第24-27页 |
| ·铝片热处理的影响 | 第24页 |
| ·电解液种类的影响 | 第24-25页 |
| ·氧化电压的影响 | 第25-26页 |
| ·温度的影响 | 第26页 |
| ·扩孔时间的影响 | 第26-27页 |
| ·形成机理探讨 | 第27-28页 |
| ·氧化铝纳米线 | 第28-30页 |
| ·Al_2O_3纳米线的制备 | 第28-29页 |
| ·Al_2O_3纳米线的形成机理分析 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 3 磁性纳米线阵列的生长控制及表征 | 第31-47页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·镍纳米线阵列的制备及表征 | 第31-37页 |
| ·电化学沉积镍纳米线阵列 | 第31-32页 |
| ·沉积参数的选择 | 第32页 |
| ·镍纳米线阵列的表征 | 第32-34页 |
| ·氧化还原法制备镍纳米线阵列 | 第34-37页 |
| ·铁纳米线阵列的制备及表征 | 第37-39页 |
| ·电化学沉积铁纳米线阵列 | 第37-38页 |
| ·氧化还原法制备铁纳米线阵列 | 第38-39页 |
| ·铁酸钴纳米线阵列的制备及表征 | 第39-41页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·实验部分 | 第39-41页 |
| ·铁酸钴纳米颗粒的制备及表征 | 第41-47页 |
| ·引言 | 第41-42页 |
| ·实验 | 第42页 |
| ·试剂 | 第42页 |
| ·制备过程 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-46页 |
| ·样品的 XRD 分析 | 第42-43页 |
| ·样品的 SEM 分析 | 第43-44页 |
| ·样品的 M ssbauer 分析 | 第44-45页 |
| ·样品的磁滞回线分析 | 第45-46页 |
| ·结论 | 第46-47页 |
| 4 氧化铝模板防水 | 第47-51页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·实验部分 | 第47页 |
| ·样品测试与表征 | 第47-49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-51页 |
| 5 全文总结 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-55页 |
| 在学研究成果 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
