| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·纳米薄膜材料 | 第10页 |
| ·纳米薄膜材料制备技术 | 第10-14页 |
| ·溅射法 | 第11-13页 |
| ·化学气相沉积法 | 第13-14页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第14页 |
| ·电化学沉积法 | 第14页 |
| ·纳米铜膜功能纺织材料的研究 | 第14-16页 |
| ·纳米铜薄膜的研究现状 | 第15页 |
| ·纳米铜膜在功能纺织材料中的应用研究 | 第15-16页 |
| ·研究目的、意义及主要内容 | 第16-18页 |
| ·研究目的、意义 | 第16页 |
| ·研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 实验材料的选择及实验方法 | 第18-23页 |
| ·实验材料的选择 | 第18页 |
| ·实验仪器和方法 | 第18-23页 |
| ·实验仪器 | 第18-20页 |
| ·实验方法 | 第20-23页 |
| 第三章 涤纶基布表面磁控溅射纳米铜膜的结构和成形机理 | 第23-43页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·涤纶基布表面磁控溅射铜膜的结构 | 第23-33页 |
| ·纳米铜膜的形貌 | 第23-30页 |
| ·表面成分分析 | 第30页 |
| ·晶态结构表征 | 第30-33页 |
| ·纳米金属薄膜生长过程及模式 | 第33-34页 |
| ·涤纶基布表面纳米铜膜的成形机理 | 第34-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 表面磁控溅射纳米铜膜的涤纶基布性能研究 | 第43-61页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·实验部分 | 第43-47页 |
| ·基布孔径和孔隙率测试 | 第43-44页 |
| ·光学透射性能测试 | 第44页 |
| ·导电性能测试 | 第44-45页 |
| ·电磁屏蔽性能测试 | 第45-46页 |
| ·薄膜均匀性评价 | 第46页 |
| ·其他应用性能测试 | 第46-47页 |
| ·实验结果与讨论 | 第47-60页 |
| ·涤纶基布孔径大小分布及孔隙率 | 第47-48页 |
| ·透光性能 | 第48-50页 |
| ·导电性能 | 第50-54页 |
| ·电磁屏蔽性能 | 第54-57页 |
| ·其他应用性能 | 第57-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 溅射纳米铜膜-涤纶基布界面结合强度研究 | 第61-70页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·实验部分 | 第61页 |
| ·铜膜与基布结合界面形貌表征 | 第61页 |
| ·铜膜与基布界面结合强度测试 | 第61页 |
| ·耐磨性能测试 | 第61页 |
| ·实验结果与讨论 | 第61-69页 |
| ·铜膜与基布界面结合形貌 | 第61-63页 |
| ·铜膜与基布剥离性能分析 | 第63-65页 |
| ·铜膜与基布界面结合机理 | 第65-67页 |
| ·耐磨性分析 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 表面磁控溅射纳米铜膜涤纶基布的导电性能评价 | 第70-78页 |
| ·引言 | 第70页 |
| ·实验部分 | 第70-71页 |
| ·实验结果与讨论 | 第71-77页 |
| ·正交试验结果分析 | 第71-73页 |
| ·环境条件对表面磁控溅射纳米铜膜涤纶基布的导电性影响 | 第73-74页 |
| ·表面磁控溅射纳米铜膜涤纶基布的导电时效性 | 第74-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第七章 结论与展望 | 第78-81页 |
| ·主要结论 | 第78-79页 |
| ·创新点 | 第79页 |
| ·展望 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-88页 |
| 附录：作者在攻读博士学位期间发表的论文 | 第88页 |
