| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-21页 |
| ·分子印迹技术概况 | 第12页 |
| ·分子印迹技术的基本原理 | 第12-13页 |
| ·分子印迹技术生物传感器的研究和应用 | 第13-17页 |
| ·分子印迹电化学传感器 | 第13-16页 |
| ·分子印迹电流型传感器 | 第13-14页 |
| ·分子印迹电导型传感器 | 第14-15页 |
| ·分子印迹电位型传感器 | 第15页 |
| ·分子印迹电容型传感器 | 第15-16页 |
| ·分子印迹光学传感器 | 第16页 |
| ·分子印迹石英晶体微量天平传感器 | 第16-17页 |
| ·分子印迹传感器存在的不足和发展趋势 | 第17页 |
| ·电化学发光传感器的研究和应用 | 第17-19页 |
| ·电化学发光技术概况 | 第17页 |
| ·常见的电化学发光的体系 | 第17-18页 |
| ·电化学发光生物传感器的应用 | 第18-19页 |
| ·选题背景及主要工作 | 第19-21页 |
| 第2章 酶放大效应的分子印迹电化学发光传感器测定痕量异丙隆 | 第21-33页 |
| ·引言 | 第21-22页 |
| ·实验部分 | 第22-24页 |
| ·主要仪器与试剂 | 第22页 |
| ·分子印迹膜和非分子印迹膜修饰电极的制备 | 第22-23页 |
| ·掩蔽、孵化、竞争过程 | 第23页 |
| ·电化学和电化学发光测量方法 | 第23页 |
| ·样品处理 | 第23-24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-31页 |
| ·电聚合邻氨基酚和异丙隆 | 第24页 |
| ·循环伏安法表征分子印迹传感器 | 第24-25页 |
| ·交流阻抗法表征分子印迹传感器 | 第25-26页 |
| ·分子印迹膜聚合圈数的选择 | 第26页 |
| ·电化学发光底液的选择 | 第26-28页 |
| ·孵化和竞争时间的优化 | 第28页 |
| ·分子印迹传感器对 IPU 的 ECL 响应 | 第28-30页 |
| ·分子印迹传感器选择性分析 | 第30-31页 |
| ·分子印迹传感器重现性与稳定性分析 | 第31页 |
| ·样品检测 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 罗丹明 B 放大的分子印迹电化学发光传感器选择性测定赤霉素 | 第33-45页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·实验部分 | 第34-35页 |
| ·实验主要仪器和试剂 | 第34页 |
| ·分子印迹膜和非分子印迹膜的制备 | 第34-35页 |
| ·掩蔽、孵化和竞争过程 | 第35页 |
| ·电化学表征和电化学发光发光检测方法 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-44页 |
| ·邻苯二胺和 GA3 的电聚合过程 | 第35-36页 |
| ·循环伏安法表征分子印迹膜和非分子印迹膜 | 第36-37页 |
| ·交流阻抗法表征分子印迹膜 | 第37-38页 |
| ·罗丹明 B 对鲁米诺电化学发光信号的放大效应 | 第38-39页 |
| ·分子印迹膜聚合圈数的选择 | 第39页 |
| ·缓冲介质、pH 值和鲁米诺浓度的选择 | 第39-41页 |
| ·孵化和竞争时间优化 | 第41页 |
| ·分子印迹传感器对 GA3 的 ECL 响应 | 第41-42页 |
| ·分子印迹传感器的特异识别性分析 | 第42-44页 |
| ·传感器重现性和稳定性分析 | 第44页 |
| ·样品检测 | 第44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 量子点表面分子印迹电化学发光传感器测定二氯吡啶酸 | 第45-57页 |
| ·前言 | 第45-46页 |
| ·实验部分 | 第46-48页 |
| ·主要实验仪器和试剂 | 第46页 |
| ·分子印迹膜和非分子印迹膜的制备 | 第46-47页 |
| ·掩蔽、孵化和竞争过程 | 第47页 |
| ·电化学检测和电化学发光检测方法 | 第47页 |
| ·样品处理方法 | 第47-48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-56页 |
| ·邻苯二胺和 CPD 的电聚合过程 | 第48页 |
| ·传感器的电化学发光响应 | 第48-49页 |
| ·循环伏安法表征分子印迹膜 | 第49-50页 |
| ·交流阻抗法表征分子印迹膜 | 第50-51页 |
| ·分子印迹膜聚合圈数的选择 | 第51页 |
| ·孵化和竞争时间的优化 | 第51-52页 |
| ·电化学发光条件的优化 | 第52-54页 |
| ·传感器对 CPD 的 ECL 响应 | 第54页 |
| ·分子印迹传感器特异性识别能力的分析 | 第54-56页 |
| ·传感器的重现性和稳定性分析 | 第56页 |
| ·样品测定 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 基于膜发光的分子印迹电化学发光传感器测定强力霉素 | 第57-70页 |
| ·前言 | 第57-58页 |
| ·实验部分 | 第58-59页 |
| ·主要仪器和试剂 | 第58页 |
| ·分子印迹发光膜和非分子印迹膜的制备 | 第58-59页 |
| ·电化学与电化学发光测量方法 | 第59页 |
| ·样品处理 | 第59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-69页 |
| ·分子印迹发光膜的电聚合过程 | 第59-60页 |
| ·分子印迹膜的电化学发光现象 | 第60-61页 |
| ·循环法表征分子印迹膜 | 第61-62页 |
| ·交流阻抗法表征分子印迹膜 | 第62-63页 |
| ·质谱法表征分子印迹膜 | 第63-65页 |
| ·分子印迹膜聚合圈数的选择 | 第65页 |
| ·重吸附时间的优化 | 第65页 |
| ·电化学发光条件的优化 | 第65-67页 |
| ·分子印迹传感器对 DC 的电化学发光响应 | 第67页 |
| ·分子印迹传感器的特异识别性分析 | 第67-69页 |
| ·分子印迹传感器的重现性和稳定性分析 | 第69页 |
| ·样品检测 | 第69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第6章 高选择性分子印迹电化学发光传感器测定盐酸左旋咪唑 | 第70-86页 |
| ·前言 | 第70-71页 |
| ·实验部分 | 第71-73页 |
| ·主要实验仪器和试剂 | 第71-72页 |
| ·6-SH-β-CD 的合成 | 第72页 |
| ·分子印迹膜和非分子印迹膜的制备 | 第72页 |
| ·掩蔽、孵化和竞争过程 | 第72-73页 |
| ·电化学检测和电化学发光检测方法 | 第73页 |
| ·样品处理方法 | 第73页 |
| ·结果与讨论 | 第73-84页 |
| ·6-SH-β-CD 红外谱图分析 | 第73-74页 |
| ·邻苯二胺和 CPD 的电聚合过程 | 第74-75页 |
| ·循环伏安法表征分子印迹膜 | 第75页 |
| ·交流阻抗法表征分子印迹膜 | 第75-76页 |
| ·质谱法表征分子印迹膜 | 第76-78页 |
| ·分子印迹膜聚合圈数的选择 | 第78页 |
| ·孵化和竞争时间的优化 | 第78-79页 |
| ·电化学发光条件的优化 | 第79-80页 |
| ·分子印迹传感器对 LMS 的电化学发光响应 | 第80-81页 |
| ·分子印迹传感器特异性识别能力的分析 | 第81-84页 |
| ·传感器的重现性和稳定性分析 | 第84页 |
| ·样品测定 | 第84-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第7章 结论 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-103页 |
| 致谢 | 第103-104页 |
| 个人简历 | 第104页 |
| 申请学位期间的研究成果及发表的学术论文 | 第104页 |
