铜表面化学气相沉积石墨烯的研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-10页
第一章 绪论	第10-32页
·石墨烯的基本结构与性质	第10-11页
·石墨烯的制备方法	第11-25页
·剥离石墨法	第12-14页
·加热SiC法	第14页
·化学气相沉积法	第14-25页
·CVD石墨烯的结构及其拉曼光谱	第25-28页
·石墨烯的应用	第28-29页
·研究内容与目的	第29-32页
第二章 实验部分	第32-44页
·实验药品	第32页
·实验设备与仪器	第32-33页
·铜箔基底处理	第33-34页
·石墨烯的CVD制备	第34-36页
·不同温度条件下石墨烯的CVD制备	第34-35页
·不同氢气流量下石墨烯的CVD制备	第35-36页
·石墨烯的转移	第36-38页
·实验器皿的处理	第38页
·分析与测试方法	第38-44页
·X-射线衍射	第38-39页
·扫描电子显微镜	第39-40页
·拉曼光谱分析	第40-41页
·光学显微镜	第41-42页
·电导率分析	第42-44页
第三章 石墨烯的结构表征	第44-54页
·对铜箔基底的表征与分析	第44-45页
·不同温度条件下石墨烯的表征与分析	第45-46页
·不同氢气流量下石墨烯的表征与分析	第46-54页
·不同氢气流量下石墨烯的SEM与光学表征	第46-52页
·不同氢气流量下石墨烯的Raman表征	第52-53页
·不同氢气流量下石墨烯的导电性能表征	第53-54页
第四章 结论与展望	第54-56页
·结论	第54页
·课题展望	第54-56页
参考文献	第56-62页
攻读硕士期间发表的论文及研究成果	第62-63页
致谢	第63页