| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-38页 |
| ·传统太阳能电池 | 第10-14页 |
| ·太阳能的意义 | 第10页 |
| ·太阳能电池的工作原理及发展现状 | 第10-12页 |
| ·太阳能电池的基本工作原理 | 第10-11页 |
| ·太阳能电池的发展现状 | 第11-12页 |
| ·太阳能电池的分类及其优势与挑战 | 第12-14页 |
| ·硅太阳能电池 | 第12-13页 |
| ·多元化合物薄膜太阳能电池 | 第13页 |
| ·纳米晶太阳能电池 | 第13页 |
| ·有机太阳能电池 | 第13-14页 |
| ·染料/量子点敏化太阳能电池 | 第14-17页 |
| ·染料敏化太阳能电池 | 第14-15页 |
| ·量子点敏化太阳能电池 | 第15-17页 |
| ·ZnO半导体材料及其在太阳能电池中的应用 | 第17-35页 |
| ·ZnO半导体材料的结构特性 | 第17-19页 |
| ·ZnO半导体材料的电学特性 | 第19-20页 |
| ·ZnO半导体材料的光学特性 | 第20-22页 |
| ·ZnO半导体材料的压电性能 | 第22页 |
| ·ZnO薄膜的制备 | 第22-31页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第22-24页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第24-26页 |
| ·磁控溅射 | 第26-29页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第29-31页 |
| ·ZnO的掺杂 | 第31-33页 |
| ·ZnO的n型掺杂 | 第31页 |
| ·ZnO的p型掺杂 | 第31-33页 |
| ·ZnO在发光器件中的应用 | 第33-35页 |
| ·本文的立题思路和研究内容 | 第35-38页 |
| 第二章 实验设备及原理、器件制备及性能表征 | 第38-46页 |
| ·实验设备与方法 | 第38-44页 |
| ·磁控溅射 | 第38-42页 |
| ·磁控溅射设备及原理 | 第38-40页 |
| ·ZnO陶瓷靶材制备 | 第40-41页 |
| ·衬底的清洗 | 第41页 |
| ·薄膜的制备 | 第41-42页 |
| ·ZnO纳米线的制备 | 第42-44页 |
| ·太阳能电池器件的制备 | 第44页 |
| ·性能表征手段 | 第44-46页 |
| 第三章 ZnO纳米阵列的制备与优化 | 第46-58页 |
| ·物料浓度对ZnO纳米阵列的形貌的影响 | 第46-50页 |
| ·保温时间对ZnO纳米阵列的形貌的影响 | 第50-53页 |
| ·保温温度对ZnO纳米阵列的形貌的影响 | 第53-56页 |
| ·ZnO纳米阵列的XRD测试 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 ZnO纳米阵列太阳能电池的原理、表征及优化 | 第58-68页 |
| ·ZnO纳米阵列有机/无机太阳能电池的原理 | 第58页 |
| ·ZnO纳米阵列有机/无机太阳能电池的常用表征参数 | 第58-59页 |
| ·ZnO纳米阵列有机/无机太阳能电池的制备过程优化 | 第59-65页 |
| ·制备过程中的退火处理优化 | 第59-62页 |
| ·退火优化方法和结果 | 第59-61页 |
| ·退火优化的结果分析 | 第61-62页 |
| ·P3HT有机物层的旋涂速度优化处理 | 第62-65页 |
| ·不同旋涂速度制备得到的器件的性能 | 第62-64页 |
| ·旋涂速度优化的结果分析 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-68页 |
| 第五章 ZnO纳米阵列太阳能电池的有机/无机界面修饰 | 第68-74页 |
| ·量子点的合成与引入 | 第68-70页 |
| ·量子点的合成 | 第68-69页 |
| ·量子点的引入 | 第69-70页 |
| ·量子点修饰效果 | 第70-73页 |
| ·量子点修饰后的器件性能 | 第70-71页 |
| ·量子点修饰效果的分析与讨论 | 第71-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第六章 结论 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-86页 |
| 致谢 | 第86-88页 |
| 个人简历 | 第88-90页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第90页 |
