| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| ·电镀简介 | 第9-12页 |
| ·脉冲电镀 | 第12-19页 |
| ·脉冲电镀的定义 | 第12页 |
| ·脉冲电镀原理 | 第12-19页 |
| ·镀镍工业及研究现状 | 第19-23页 |
| ·镀镍工业发展 | 第19-20页 |
| ·镀镍研究现状 | 第20-22页 |
| ·稀土在镀镍工业中的应用 | 第22-23页 |
| ·选题意义及研究方向 | 第23-25页 |
| 第二章 实验原理及方法 | 第25-37页 |
| ·实验原理 | 第25-27页 |
| ·电沉积原理 | 第25页 |
| ·LaCl_3.7H_2O在镀液中的溶解及作用 | 第25-26页 |
| ·电极上的吸附及添加剂的动力学效应 | 第26-27页 |
| ·实验主要试剂 | 第27-28页 |
| ·实验主要设备 | 第28页 |
| ·镀液配方 | 第28-29页 |
| ·施镀工艺流程 | 第29-32页 |
| ·镀液的配制 | 第30页 |
| ·镀件表面预处理 | 第30-31页 |
| ·施镀 | 第31-32页 |
| ·镀层的性能测试 | 第32-37页 |
| ·镀层电沉积速率测定 | 第32页 |
| ·镀层的表面质量 | 第32页 |
| ·镀层硬度测定 | 第32-33页 |
| ·镀层结合力测定 | 第33页 |
| ·镀层表面形貌及微观结构测定 | 第33页 |
| ·镀层耐蚀性测定 | 第33-34页 |
| ·镀层孔隙率测定 | 第34-35页 |
| ·耐磨性能测试 | 第35-37页 |
| 第三章 沉积参数对镀层性能的影响 | 第37-54页 |
| ·最佳耐蚀性工艺参数确定 | 第37-39页 |
| ·耐蚀性评定方法 | 第37页 |
| ·镀层最佳耐蚀性工艺参数确定 | 第37-39页 |
| ·脉冲频率对Ni镀层沉积及性能的影响 | 第39-41页 |
| ·脉冲频率对沉积速度的影响 | 第39页 |
| ·脉冲频率对镀层表面亮度的影响 | 第39-40页 |
| ·脉冲频率对镀层硬度的影响 | 第40页 |
| ·脉冲频率对镀层耐蚀性的影响 | 第40-41页 |
| ·温度对镀层沉积速度及性能的影响 | 第41-43页 |
| ·温度对镀层沉积速度的影响 | 第41-42页 |
| ·温度对镀层表面亮度的影响 | 第42页 |
| ·温度对镀层显微硬度的影响 | 第42-43页 |
| ·温度对镀层耐蚀性的影响 | 第43页 |
| ·pH值对镀层沉积速率及性能的影响 | 第43-46页 |
| ·pH值对沉积速率的影响 | 第43-45页 |
| ·pH值对镀层表面光亮度的影响 | 第45页 |
| ·pH值对镀层显微硬度的影响 | 第45页 |
| ·pH值对镀层耐蚀性的影响 | 第45-46页 |
| ·阴极电流密度对镀层沉积速度及性能的影响 | 第46-49页 |
| ·阴极电流密度对沉积速度的影响 | 第46-47页 |
| ·阴极电流密度对镀层表面光亮度的影响 | 第47-48页 |
| ·阴极电流密度对镀层显微硬度的影响 | 第48页 |
| ·阴极电流密度对镀层耐蚀性的影响 | 第48-49页 |
| ·LaCl_3.7H_2O的添加量对沉积速度及镀层性能的影响 | 第49-52页 |
| ·LaCl_3.7H_2O的添加量对沉积速度的影响 | 第49-50页 |
| ·LaCl_3.7H_2O的添加量对镀层表面光亮度的影响 | 第50页 |
| ·LaCl_3.7H_2O的添加量对镀层显微硬度的影响 | 第50-51页 |
| ·LaCl_3.7H_2O的添加量对沉积耐蚀性的影响 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 镀层性能及微观结构分析 | 第54-66页 |
| ·镀层的微观形貌 | 第54-55页 |
| ·镀层的微观结构 | 第55-57页 |
| ·镀层的XRD图谱分析 | 第57-58页 |
| ·镀层结合力检测 | 第58页 |
| ·镀层耐磨性分析 | 第58-60页 |
| ·镀层的硬度分析 | 第60-62页 |
| ·镀层耐腐蚀性分析 | 第62页 |
| ·镀层抗氧化性分析 | 第62-63页 |
| ·镀层孔隙率测定 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-66页 |
| 第五章 结论与展望 | 第66-69页 |
| ·结论 | 第66-67页 |
| ·研究工作展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第74-75页 |
