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负氢离子源的三维PIC/MCC数值模拟研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 绪论第10-16页
   ·负氢离子源发展历史第10页
   ·负氢离子源研究意义第10-12页
   ·负氢离子源研究概况第12-15页
     ·实验研究进展第12-13页
     ·模拟研究进展第13-15页
   ·论文的结构与内容第15-16页
第二章 矩形永磁体的三维差分数值算法分析第16-22页
   ·引言第16页
   ·矩形永磁体解析算法第16-17页
   ·矩形永磁体数值算法第17-20页
     ·差分格式推导第17-19页
     ·差分方程求解第19-20页
   ·矩形永磁体数值算法模拟验证第20-21页
   ·小结第21-22页
第三章 三维PIC/MCC算法理论研究第22-42页
   ·引言第22页
   ·电磁粒子模拟方法(PIC)第22-27页
     ·时空离散第22-23页
     ·粒子模型第23页
     ·粒子发射第23-24页
     ·粒子推动第24-27页
       ·电磁场的权重第24-25页
       ·运动方程的求解第25-27页
   ·蒙特卡罗碰撞方法(MCC)第27-37页
     ·空碰撞理论简介第27-28页
     ·碰撞类型分析第28-37页
       ·电子与中性粒子碰撞第28-32页
       ·离子与中性粒子碰撞第32-34页
       ·其它非同类粒子碰撞第34页
       ·库仑碰撞第34-37页
   ·三维PIC-MCC算法实现及验证第37-41页
     ·算法流程设计实现第37-38页
     ·算法数值模拟验证第38-41页
       ·模拟参数设置描述第38-39页
       ·模拟验证结果分析第39-41页
   ·小结第41-42页
第四章 JAERI 10A离子源数值模拟研究第42-57页
   ·引言第42页
   ·JAERI 10A离子源非均匀性起因分析第42-45页
     ·模型描述及参数设置第42-43页
     ·Y方向漂移现象分析第43-45页
   ·JAERI 10A离子源均匀性优化设计第45-56页
     ·多峰磁场形态优化第46-54页
       ·两类多峰离子源模型第46-47页
       ·两类多峰离子源对比第47-48页
       ·Tent型多峰离子源的选择第48-51页
       ·放电位置对Tent型多峰离子源的影响第51-52页
       ·引出磁场对Tent型多峰离子源的影响第52-54页
     ·离子源结构优化第54-56页
       ·新结构均匀性模拟分析第54-56页
       ·引出磁场对均匀性影响第56页
   ·小结第56-57页
第五章 J-PARC离子源数值模拟研究第57-67页
   ·引言第57页
   ·第1型J-PARC离子源第57-62页
     ·模型及参数描述第57-58页
     ·模拟结果及分析第58-62页
       ·基本放电特性模拟第58-61页
       ·体积产生机制分析第61-62页
   ·第2型J-PARC离子源第62-66页
     ·模型及参数描述第62-63页
     ·模拟结果及分析第63-66页
       ·单校正磁体下基本放电特性第63-65页
       ·单校正磁体下体积产生效率第65-66页
       ·校正磁体下体积产生效率第66页
   ·小结第66-67页
第六章 总结第67-68页
致谢第68-69页
参考文献第69-73页
攻硕期间取得的研究成果第73页

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