负氢离子源的三维PIC/MCC数值模拟研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-16页 |
·负氢离子源发展历史 | 第10页 |
·负氢离子源研究意义 | 第10-12页 |
·负氢离子源研究概况 | 第12-15页 |
·实验研究进展 | 第12-13页 |
·模拟研究进展 | 第13-15页 |
·论文的结构与内容 | 第15-16页 |
第二章 矩形永磁体的三维差分数值算法分析 | 第16-22页 |
·引言 | 第16页 |
·矩形永磁体解析算法 | 第16-17页 |
·矩形永磁体数值算法 | 第17-20页 |
·差分格式推导 | 第17-19页 |
·差分方程求解 | 第19-20页 |
·矩形永磁体数值算法模拟验证 | 第20-21页 |
·小结 | 第21-22页 |
第三章 三维PIC/MCC算法理论研究 | 第22-42页 |
·引言 | 第22页 |
·电磁粒子模拟方法(PIC) | 第22-27页 |
·时空离散 | 第22-23页 |
·粒子模型 | 第23页 |
·粒子发射 | 第23-24页 |
·粒子推动 | 第24-27页 |
·电磁场的权重 | 第24-25页 |
·运动方程的求解 | 第25-27页 |
·蒙特卡罗碰撞方法(MCC) | 第27-37页 |
·空碰撞理论简介 | 第27-28页 |
·碰撞类型分析 | 第28-37页 |
·电子与中性粒子碰撞 | 第28-32页 |
·离子与中性粒子碰撞 | 第32-34页 |
·其它非同类粒子碰撞 | 第34页 |
·库仑碰撞 | 第34-37页 |
·三维PIC-MCC算法实现及验证 | 第37-41页 |
·算法流程设计实现 | 第37-38页 |
·算法数值模拟验证 | 第38-41页 |
·模拟参数设置描述 | 第38-39页 |
·模拟验证结果分析 | 第39-41页 |
·小结 | 第41-42页 |
第四章 JAERI 10A离子源数值模拟研究 | 第42-57页 |
·引言 | 第42页 |
·JAERI 10A离子源非均匀性起因分析 | 第42-45页 |
·模型描述及参数设置 | 第42-43页 |
·Y方向漂移现象分析 | 第43-45页 |
·JAERI 10A离子源均匀性优化设计 | 第45-56页 |
·多峰磁场形态优化 | 第46-54页 |
·两类多峰离子源模型 | 第46-47页 |
·两类多峰离子源对比 | 第47-48页 |
·Tent型多峰离子源的选择 | 第48-51页 |
·放电位置对Tent型多峰离子源的影响 | 第51-52页 |
·引出磁场对Tent型多峰离子源的影响 | 第52-54页 |
·离子源结构优化 | 第54-56页 |
·新结构均匀性模拟分析 | 第54-56页 |
·引出磁场对均匀性影响 | 第56页 |
·小结 | 第56-57页 |
第五章 J-PARC离子源数值模拟研究 | 第57-67页 |
·引言 | 第57页 |
·第1型J-PARC离子源 | 第57-62页 |
·模型及参数描述 | 第57-58页 |
·模拟结果及分析 | 第58-62页 |
·基本放电特性模拟 | 第58-61页 |
·体积产生机制分析 | 第61-62页 |
·第2型J-PARC离子源 | 第62-66页 |
·模型及参数描述 | 第62-63页 |
·模拟结果及分析 | 第63-66页 |
·单校正磁体下基本放电特性 | 第63-65页 |
·单校正磁体下体积产生效率 | 第65-66页 |
·校正磁体下体积产生效率 | 第66页 |
·小结 | 第66-67页 |
第六章 总结 | 第67-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-73页 |
攻硕期间取得的研究成果 | 第73页 |