基于SU-8微透镜及其阵列制造方法
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-19页 |
| ·课题研究背景 | 第10-11页 |
| ·MOMES 国内外研究现状 | 第11-14页 |
| ·国外研究现状 | 第12-13页 |
| ·国内研究现状 | 第13-14页 |
| ·微透镜研究进展 | 第14-18页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第18-19页 |
| 2 球面透镜与非球面透镜的 ZEMAX 仿真 | 第19-29页 |
| ·光学系统的像差分析 | 第19-23页 |
| ·球差 | 第19-20页 |
| ·彗差 | 第20-21页 |
| ·像散 | 第21页 |
| ·场曲 | 第21-22页 |
| ·畸变 | 第22页 |
| ·色差 | 第22-23页 |
| ·光学系统像差评价图表 | 第23-24页 |
| ·点列图(Spot Diagrams） | 第23页 |
| ·光扇图(Ray Fans) | 第23-24页 |
| ·球面透镜的 ZEMAX 仿真 | 第24-25页 |
| ·抛物线型透镜 ZEMAX 仿真 | 第25-26页 |
| ·球面透镜与抛物线型透镜性能对比 | 第26-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 3 基于 SU-8 光刻工艺研究 | 第29-39页 |
| ·基于聚合物的微制造工艺研究 | 第29-30页 |
| ·使用光刻胶作为结构材料 | 第29页 |
| ·SU-8 光刻胶的特性 | 第29-30页 |
| ·使用 SU-8 加工高深宽比结构研究 | 第30-33页 |
| ·SU-8 平整度误差 | 第31页 |
| ·应力的产生 | 第31-32页 |
| ·显影时间的选择 | 第32页 |
| ·冲洗过程中结构的破坏 | 第32-33页 |
| ·光刻光源特性研究及衍射现象 | 第33-38页 |
| ·光刻机能量测定、光谱测定 | 第33页 |
| ·SU-8 透光性研究 | 第33-36页 |
| ·衍射现象的产生极其消除措施 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 4 微透镜及其阵列加工工艺 | 第39-53页 |
| ·掩模板的制作 | 第39-40页 |
| ·球面透镜掩模板的制作 | 第39页 |
| ·非球面透镜掩模板的制作 | 第39-40页 |
| ·斜曝光工艺的研究 | 第40-42页 |
| ·微透镜及其阵列微加工工艺 | 第42-47页 |
| ·备片 | 第43页 |
| ·甩胶 | 第43页 |
| ·前烘 | 第43-45页 |
| ·曝光 | 第45-46页 |
| ·后烘 | 第46-47页 |
| ·显影 | 第47页 |
| ·微透镜及其阵列的微复制工艺 | 第47-52页 |
| ·PDMS 简介 | 第49-50页 |
| ·PDMS 脱模流程 | 第50-51页 |
| ·NOA73 简介 | 第51页 |
| ·NOA73 脱模流程 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 5 实验结果的测量与分析 | 第53-58页 |
| ·实验结果及分析 | 第53-54页 |
| ·微透镜曲率半径的测量 | 第54-55页 |
| ·微透镜聚焦性能的测量 | 第55-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 6 总结与展望 | 第58-60页 |
| ·总结 | 第58页 |
| ·展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
