摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-14页 |
第1章 绪论 | 第14-27页 |
·AlN 的晶体结构 | 第14-15页 |
·AlN 薄膜的制备技术 | 第15-17页 |
·反应磁控溅射法 | 第15页 |
·分子束外延法 | 第15-16页 |
·化学气相沉积(CVD) | 第16页 |
·离子束辅助沉积法(IBAD) | 第16页 |
·脉冲激光沉积法(PLD) | 第16-17页 |
·AlN 薄膜的性质 | 第17-21页 |
·AlN 薄膜的电学性能 | 第17-18页 |
·AlN 薄膜的光学性能 | 第18-19页 |
·AlN 薄膜的机械性能 | 第19页 |
·AlN 薄膜的压电性能 | 第19-21页 |
·AlN 薄膜的应用 | 第21-24页 |
·绝缘埋层材料 | 第21-22页 |
·场发射材料 | 第22页 |
·发光材料 | 第22页 |
·传感器材料 | 第22页 |
·声表面波器件用压电材料 | 第22-24页 |
·(002)取向 AlN 薄膜的研究现状 | 第24-26页 |
·本文的研究背景和内容 | 第26-27页 |
第2章 AlN 薄膜制备及分析测试方法 | 第27-34页 |
·薄膜制备装置 | 第27-29页 |
·薄膜样品的制备 | 第29-31页 |
·衬底的选择及预处理过程 | 第29-30页 |
·AlN 薄膜及过渡层的制备方法及工艺条件 | 第30-31页 |
·AlN 薄膜表征方法 | 第31-32页 |
·X 射线衍射分析 | 第31页 |
·X 射线光电子能谱分析 | 第31页 |
·扫描电子显微镜分析 | 第31-32页 |
·光学显微镜 | 第32页 |
·AlN 薄膜性能测试 | 第32-34页 |
·薄膜厚度的测量 | 第32页 |
·薄膜粘结强度测试 | 第32页 |
·薄膜表面粗糙度测试 | 第32-34页 |
第3章 AlN 薄膜制备工艺方法研究 | 第34-52页 |
·制备方法对 AlN 薄膜(002)取向度的影响 | 第34-38页 |
·反应磁控溅射制备 AlN 薄膜的(002)取向度 | 第34-36页 |
·离子束辅助沉积制备 AlN 薄膜的(002)取向度 | 第36-37页 |
·离子束溅射方法制备 AlN 薄膜的结构分析 | 第37-38页 |
·制备方法对 AlN 薄膜表面形貌的影响 | 第38-43页 |
·反应磁控溅射制备 AlN 薄膜的表面形貌 | 第38-40页 |
·离子束辅助沉积制备 AlN 薄膜的表面形貌 | 第40-41页 |
·离子束溅射制备 AlN 薄膜的表面形貌 | 第41-43页 |
·制备方法对 AlN 薄膜沉积速率和化学计量比的影响 | 第43-49页 |
·制备方法对 AlN 薄膜沉积速率的影响 | 第43-44页 |
·制备方法对 AlN 薄膜化学计量比的影响 | 第44-49页 |
·制备方法对 AlN 薄膜粘接性能的影响 | 第49-50页 |
·小结 | 第50-52页 |
第4章 异质过渡层对 AlN 薄膜(002)取向结构、表面形貌和粘接性能的影响 | 第52-74页 |
·异质过渡层对 AlN 薄膜(002)取向度的影响 | 第52-61页 |
·金属过渡层对 AlN 薄膜(002)取向度的影响 | 第52-56页 |
·无机非金属过渡层对 AlN 薄膜(002)取向度的影响 | 第56-61页 |
·异质过渡层对 AlN 薄膜表面形貌的影响 | 第61-69页 |
·金属过渡层对 AlN 薄膜表面形貌的影响 | 第61-64页 |
·无机非金属过渡层对 AlN 薄膜表面形貌的影响 | 第64-69页 |
·异质过渡层对 AlN 薄膜粘接性能的影响 | 第69-73页 |
·金属过渡层对 AlN 薄膜粘接性能的影响 | 第69-72页 |
·无机非金属过渡层对 AlN 薄膜粘接性能的影响 | 第72-73页 |
·小结 | 第73-74页 |
第5章 同质过渡层诱导生长高(002)取向度 AlN 薄膜 | 第74-88页 |
·诱导生长对 AlN 薄膜(002)取向度的影响 | 第74-80页 |
·靶基距对诱导生长 AlN 薄膜(002)取向度的影响 | 第74-76页 |
·衬底温度对诱导生长 AlN 薄膜(002)取向度的影响 | 第76-78页 |
·高(002)取向度 AlN 薄膜诱导生长机制分析 | 第78-80页 |
·诱导生长的 AlN 薄膜表面形貌分析 | 第80-82页 |
·诱导生长的 AlN 薄膜粘接性能研究 | 第82-87页 |
·小结 | 第87-88页 |
结论 | 第88-89页 |
参考文献 | 第89-99页 |
致谢 | 第99-100页 |
附录 A 攻读硕士期间的研究成果 | 第100页 |