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(002)取向AIN薄膜研究

摘要第1-6页
Abstract第6-14页
第1章 绪论第14-27页
   ·AlN 的晶体结构第14-15页
   ·AlN 薄膜的制备技术第15-17页
     ·反应磁控溅射法第15页
     ·分子束外延法第15-16页
     ·化学气相沉积(CVD)第16页
     ·离子束辅助沉积法(IBAD)第16页
     ·脉冲激光沉积法(PLD)第16-17页
   ·AlN 薄膜的性质第17-21页
     ·AlN 薄膜的电学性能第17-18页
     ·AlN 薄膜的光学性能第18-19页
     ·AlN 薄膜的机械性能第19页
     ·AlN 薄膜的压电性能第19-21页
   ·AlN 薄膜的应用第21-24页
     ·绝缘埋层材料第21-22页
     ·场发射材料第22页
     ·发光材料第22页
     ·传感器材料第22页
     ·声表面波器件用压电材料第22-24页
   ·(002)取向 AlN 薄膜的研究现状第24-26页
   ·本文的研究背景和内容第26-27页
第2章 AlN 薄膜制备及分析测试方法第27-34页
   ·薄膜制备装置第27-29页
   ·薄膜样品的制备第29-31页
     ·衬底的选择及预处理过程第29-30页
     ·AlN 薄膜及过渡层的制备方法及工艺条件第30-31页
   ·AlN 薄膜表征方法第31-32页
     ·X 射线衍射分析第31页
     ·X 射线光电子能谱分析第31页
     ·扫描电子显微镜分析第31-32页
     ·光学显微镜第32页
   ·AlN 薄膜性能测试第32-34页
     ·薄膜厚度的测量第32页
     ·薄膜粘结强度测试第32页
     ·薄膜表面粗糙度测试第32-34页
第3章 AlN 薄膜制备工艺方法研究第34-52页
   ·制备方法对 AlN 薄膜(002)取向度的影响第34-38页
     ·反应磁控溅射制备 AlN 薄膜的(002)取向度第34-36页
     ·离子束辅助沉积制备 AlN 薄膜的(002)取向度第36-37页
     ·离子束溅射方法制备 AlN 薄膜的结构分析第37-38页
   ·制备方法对 AlN 薄膜表面形貌的影响第38-43页
     ·反应磁控溅射制备 AlN 薄膜的表面形貌第38-40页
     ·离子束辅助沉积制备 AlN 薄膜的表面形貌第40-41页
     ·离子束溅射制备 AlN 薄膜的表面形貌第41-43页
   ·制备方法对 AlN 薄膜沉积速率和化学计量比的影响第43-49页
     ·制备方法对 AlN 薄膜沉积速率的影响第43-44页
     ·制备方法对 AlN 薄膜化学计量比的影响第44-49页
   ·制备方法对 AlN 薄膜粘接性能的影响第49-50页
   ·小结第50-52页
第4章 异质过渡层对 AlN 薄膜(002)取向结构、表面形貌和粘接性能的影响第52-74页
   ·异质过渡层对 AlN 薄膜(002)取向度的影响第52-61页
     ·金属过渡层对 AlN 薄膜(002)取向度的影响第52-56页
     ·无机非金属过渡层对 AlN 薄膜(002)取向度的影响第56-61页
   ·异质过渡层对 AlN 薄膜表面形貌的影响第61-69页
     ·金属过渡层对 AlN 薄膜表面形貌的影响第61-64页
     ·无机非金属过渡层对 AlN 薄膜表面形貌的影响第64-69页
   ·异质过渡层对 AlN 薄膜粘接性能的影响第69-73页
     ·金属过渡层对 AlN 薄膜粘接性能的影响第69-72页
     ·无机非金属过渡层对 AlN 薄膜粘接性能的影响第72-73页
   ·小结第73-74页
第5章 同质过渡层诱导生长高(002)取向度 AlN 薄膜第74-88页
   ·诱导生长对 AlN 薄膜(002)取向度的影响第74-80页
     ·靶基距对诱导生长 AlN 薄膜(002)取向度的影响第74-76页
     ·衬底温度对诱导生长 AlN 薄膜(002)取向度的影响第76-78页
     ·高(002)取向度 AlN 薄膜诱导生长机制分析第78-80页
   ·诱导生长的 AlN 薄膜表面形貌分析第80-82页
   ·诱导生长的 AlN 薄膜粘接性能研究第82-87页
   ·小结第87-88页
结论第88-89页
参考文献第89-99页
致谢第99-100页
附录 A 攻读硕士期间的研究成果第100页

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