| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·透明导电薄膜概述 | 第8-9页 |
| ·透明导电薄膜的研究现状及应用 | 第9-13页 |
| ·透明导电氧化物薄膜的研究现状 | 第9-11页 |
| ·金属夹层三明治结构透明导电薄膜的研究现状 | 第11-12页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第12-13页 |
| ·金属夹层三明治结构透明导电薄膜 | 第13-17页 |
| ·三明治结构薄膜的光学特性 | 第13-16页 |
| ·三明治结构薄膜的电学特性 | 第16-17页 |
| ·本文的研究目的、意义及内容 | 第17-20页 |
| ·本文的研究目的及意义 | 第17-18页 |
| ·本文的研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 ZAO/Cu/ZAO多层膜的制备与表征 | 第20-34页 |
| ·磁控溅射镀膜原理 | 第20-22页 |
| ·溅射镀膜的机理 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射 | 第21-22页 |
| ·ZAO/Cu/ZAO多层膜的制备 | 第22-28页 |
| ·磁控溅射设备介绍 | 第22-24页 |
| ·薄膜样品的制备流程 | 第24-26页 |
| ·ZAO/Cu/ZAO薄膜样品制备方案 | 第26-27页 |
| ·快速热退火处理 | 第27-28页 |
| ·ZAO/Cu/ZAO多层膜的表征 | 第28-33页 |
| ·厚度测量 | 第28-29页 |
| ·方块电阻 | 第29-30页 |
| ·可见光透过率 | 第30-31页 |
| ·表面形貌 | 第31页 |
| ·显微结构 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 ZAO/Cu/ZAO多层膜的表面形貌与结构 | 第34-46页 |
| ·Cu层厚度的影响 | 第34-37页 |
| ·ZAO层厚度的影响 | 第37-40页 |
| ·溅射温度的影响 | 第40-42页 |
| ·退火处理的作用 | 第42-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 ZAO/Cu/ZAO多层膜的光电特性研究 | 第46-59页 |
| ·ZAO/Cu/ZAO多层膜光学特性研究 | 第46-52页 |
| ·ZAO/Cu/ZAO多层膜电学特性研究 | 第52-55页 |
| ·ZAO/Cu/ZAO多层膜光电性能综合分析 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读学位期间主要研究成果 | 第70页 |