摘要 | 第1-9页 |
ABSTRACT | 第9-11页 |
第1章 绪论 | 第11-24页 |
·微弧氧化技术 | 第11-16页 |
·微弧氧化技术的发展历史 | 第11-12页 |
·微弧氧化技术的原理及特点 | 第12-13页 |
·电解液对微弧氧化的影响 | 第13-16页 |
·电解液对金属及陶瓷层表面的作用 | 第13-14页 |
·电解液电导率对微弧氧化的影响 | 第14-16页 |
·镁合金微弧氧化的发展 | 第16-23页 |
·镁合金的防腐问题 | 第16-17页 |
·镁合金微弧氧化技术的研究现状 | 第17-20页 |
·镁合金微弧氧化膜的结构及形成 | 第17-19页 |
·微弧氧化膜层性能的影响因素 | 第19-20页 |
·镁合金微弧氧化技术的应用 | 第20-22页 |
·镁合金微弧氧化技术存在的问题 | 第22-23页 |
·本课题研究意义、内容及创新 | 第23-24页 |
·本课题研究的意义 | 第23页 |
·本课题研究的内容 | 第23页 |
·本课题研究的创新点 | 第23-24页 |
第2章 实验方法 | 第24-32页 |
·实验材料及试样制备 | 第24-25页 |
·研究路线 | 第25页 |
·实验设备及检测方法 | 第25-32页 |
·膜层性能检测方法 | 第26-27页 |
·电解液中沉淀物的分离方法 | 第27页 |
·电解液浓度测定方法 | 第27-30页 |
·硅酸根离子定量分析 | 第27-28页 |
·氟离子定量分析 | 第28-30页 |
·氢氧根离子定量分析 | 第30页 |
·电解液电导率测定方法 | 第30-32页 |
第3章 试验次数对AZ91D镁合金微弧氧化的影响 | 第32-47页 |
·引言 | 第32页 |
·实验条件 | 第32页 |
·结果与讨论 | 第32-46页 |
·试验次数对电解液电导率的影响 | 第32-33页 |
·试验次数对起弧电压和终止电压的影响 | 第33-34页 |
·试验次数对电解液浓度的影响 | 第34-37页 |
·硅酸根离子浓度的变化 | 第34-35页 |
·氟离子浓度的变化 | 第35页 |
·氢氧根离子浓度和pH值的变化 | 第35-37页 |
·试验次数对微弧氧化膜层的影响 | 第37-41页 |
·膜层厚度和致密度 | 第37页 |
·膜层外观质量 | 第37-38页 |
·膜层表面形貌和粗糙度 | 第38-39页 |
·膜层组织结构 | 第39-40页 |
·膜层耐蚀性 | 第40-41页 |
·电解液沉淀过滤对微弧氧化的影响 | 第41-46页 |
·电解液电导率的变化 | 第41-42页 |
·起弧电压和终止电压的变化 | 第42页 |
·膜层厚度和致密度的变化 | 第42-43页 |
·膜层外观质量的变化 | 第43页 |
·膜层表面形貌和粗糙度的变化 | 第43-45页 |
·膜层组织结构的变化 | 第45页 |
·膜层耐蚀性的变化 | 第45-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第4章 AZ91D镁合金微弧氧化电解液老化的机理初探 | 第47-57页 |
·影响电解液稳定性的因素 | 第47-48页 |
·电解液浓度 | 第47页 |
·电解液温度 | 第47-48页 |
·循环速度 | 第48页 |
·反应副产物 | 第48页 |
·其它因素 | 第48页 |
·微弧氧化电解液的分析 | 第48-52页 |
·电解液失效分析 | 第52-54页 |
·电解液组分的影响 | 第52页 |
·副产物及杂质的影响 | 第52-53页 |
·脉冲的影响 | 第53-54页 |
·电解液再生的初步研究 | 第54-55页 |
·电解液的维护 | 第55-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
结论 | 第57-58页 |
参考文献 | 第58-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第63页 |