摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-9页 |
目录 | 第9-11页 |
第1章 绪论 | 第11-19页 |
·磁电耦合材料的背景及历史 | 第11-12页 |
·对称性的考虑 | 第12-13页 |
·磁电相互排斥 | 第13-14页 |
·多铁性材料中磁电耦合的微观机制 | 第14-15页 |
·磁电耦合材料的应用 | 第15-19页 |
第2章 第一性原理计算及有效哈密顿量方法简介 | 第19-29页 |
·密度泛函理论简介 | 第19-22页 |
·LDA(GGA)+U方法 | 第22页 |
·Berry-phase方法计算晶体的电极化 | 第22-23页 |
·第一性原理有效哈密顿量方法简介 | 第23-26页 |
·小结 | 第26-29页 |
第3章 单相多铁性材料进展简介 | 第29-45页 |
·多铁性材料分类简介 | 第29-38页 |
·第一性原理方法研究多铁性材料 | 第38-44页 |
·小结 | 第44-45页 |
第4章 对RMn_2O_5和CuO相图的研究 | 第45-69页 |
·RMn_2O_5材料的背景介绍 | 第45-50页 |
·构造有效哈密顿量 | 第50-53页 |
·参数的计算 | 第53-54页 |
·复本交换蒙特卡罗方法及模拟参数 | 第54-56页 |
·模拟结果及讨论 | 第56-62页 |
·电的相图 | 第56-57页 |
·磁的相图 | 第57-59页 |
·对相竞争的分析 | 第59-61页 |
·对于参数的进一步讨论 | 第61-62页 |
·对CuO相图的研究 | 第62-67页 |
·CuO的实验及理论背景介绍 | 第62-65页 |
·对CuO电和磁性质的第一性原理计算 | 第65-66页 |
·对CuO多铁性相图的模拟 | 第66-67页 |
·小结 | 第67-69页 |
第5章 对RMn_2O_5中新型元激发电磁子的研究 | 第69-81页 |
·磁电耦合材料中电磁子的背景介绍 | 第69-73页 |
·构造有效哈密顿量 | 第73-74页 |
·分子-自旋动力学方法 | 第74-75页 |
·计算结果及讨论 | 第75-80页 |
·总结 | 第80-81页 |
结论与展望 | 第81-83页 |
参考文献 | 第83-91页 |
附录 Appendix | 第91-99页 |
A.1 复本交换Monte Carlo简介 | 第91-93页 |
A.2 副本交换Monte Carlo方法计算三体纠缠 | 第93-99页 |
A.2.1 三体纠缠的背景介绍 | 第93页 |
A.2.2 基本概念和定义 | 第93-94页 |
A.2.3 构造目标函数 | 第94-95页 |
A.2.4 计算结果与讨论 | 第95-97页 |
A.2.5 小结 | 第97-99页 |
致谢 | 第99-101页 |
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第101页 |